射频加热的原理是什么

楼上说的基本正确，射频加热是靠快速交变的电场，引起物料内部极性分子的快速转动，摩擦生热产生热效应。射频加热的频率范围在1MHz-100GHz之间不等，频率波长不同引起穿透深度有差别。

金属是良导体，使电磁波无法穿透，所以不能采用射频加热，这就是之所以不能在微波炉中使用金属容器。含水量大的物料适合被加热，因为极性分子（即水分子）多。

射频电源(RF generator)是用来产生射频电功率的电源，可以用来加热。

射频电源与是等离子体工业设备上的驱动源，主要用在镀膜、等离子体清洗、CO2激光器等设备上。

世界上主流品牌是AE、MKS、COMDEL等；功率有600W 1000W 2000W 3000W 5000W；射频电源替代高频电源的优势是灵活的改变匹配角改变放电电压。

一套1KW的射频电源通过匹配器修改匹配角后的输出电压可以达到6KV，在放电稳定后又通过自动调节匹配角降低放电电压。

该系统可应用于半导体工业。包括刻蚀、RIE、平行板 、ICP、射频溅射、CVD和PVD等系统。

自动匹配器采用独特的“梯度下降高速调谐算法”，这种高速调谐算法能在接近调谐点时逐渐减缓调节速度。

射频半导体（硅基氮化镓）器件主要应用在网络及通信等方面，除此之外还有以下应用：

1.微波烹饪

2.汽车照明和点火

3.等离子照明

因为射频半导体（硅基氮化镓）器件其所具有的精准以及稳定的性质特点，除了以上提到的之外，也被应用于准确切除以及加热干燥等方面，比如农业的同步稳定干燥等。资料来源----MACOM GaN

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