半导体行业使用的气体具体用途是什么

做Si集成电路的fab里，你列举的这些都用的到。

硅烷和笑气，长氧化硅时候用。

HCL:清洗wafer的时候用。

CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。

SF6:蚀刻Si的时候用。

其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。

“笑气”最初的作用是用于麻醉，现在主要用于表演，也可以用来做赛车加速中的助燃剂。

笑气即一氧化二氮是约瑟夫·普利斯特里在1772年发现的，汉弗莱·戴维自己和他的朋友，包括诗人柯尔律治和罗伯特·骚塞在18世纪90年代试验了这种气体。

他们发现一氧化二氮能使病人丧失痛觉，而且吸入后仍然可以保持意识，不会神志不清。不久后笑气就被当作麻醉剂使用，尤其在牙医师领域。因为通常牙医师无专职的麻醉师，而诊疗过程中常需要病患保持清醒，并能依命令做出口腔反应，故在此气体给牙医师带来极大的方便。

扩展资料

笑气的应急处理

吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。保持呼吸道通畅。如呼吸困难，给予输氧。如呼吸停止，立即进行人工呼吸。就医。

呼吸系统防护：一般不需特殊防护。高浓度接触时可佩戴自吸过滤式防毒面具(半面罩)。

眼睛防护：一般不需特殊防护。

身体防护：穿一般作业工作服。

手防护：戴防化学品手套。

其他防护：避免高浓度吸入。进入罐、限制性空间或其他高浓度区作业，须有人监护。

泄漏应急处理：迅速撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。漏气容器要妥善处理，修复、检验后再用。

参考资料来源：百度百科-一氧化二氮 （氧化剂无色有甜味气体）

笑气（化学名：氧化亚氮）主要应用于电子工业与医学领域中。笑气（化学名：氧化亚氮）主要应用于电子工业与医学领域中。氧化亚氮的主要用途是：和氧气混合作为外科和牙科手术的麻醉剂。

氧化亚氮作为一种吸入性麻醉剂，诱导期短，镇痛效果好，停药后苏醒快，对呼吸和肝、肾功能无不良影响，但对心肌略有抑制作用，肌松不完全，全麻效能弱。临床多与巴比妥类药物，琥珀酰胆碱、鸦片制剂、环丙烷，乙醚等其他麻醉剂联合应用，单用只适用于拔牙、骨折整复、脓肿切开、外伤缝合等小手术。

这种气体是约瑟夫·普利斯特里在1772年发现的。汉弗莱·戴维自己和他的朋友，包括诗人柯尔律治和罗伯特·骚塞在16世纪90年代试验了这种气体。他们发现一氧化二氮能使病人丧失痛觉，而且吸入后仍然可以保持意识，不会神志不清。不久后笑气就被当作麻醉剂使用，尤其在牙医师领域。因为通常牙医师无专职的麻醉师，而诊疗过程中常需要病患保持清醒，并能依命令做出口腔反应，故在此气体给牙医师带来极大的方便。

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