半导体工艺废气如何处理？

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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水，净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉（TO）→烟囱排气达标排放。

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半导体废气处理

废气介绍：由于半导体工艺对 *** 作室清洁度要求极高，通常使用风机抽取工艺过程中挥发的各类废气，因此半导体行业废气排放具有排气量大、排放浓度小的特点。废气排放也以挥发为主。这些废气主要可以分为四类：酸性废气、碱性废气、有机废气和有毒废气。

废气危害：半导体制造工艺中产生的废气如果没有经过很好的处理进行排放，将造成严重的问题，不仅影响人们的身体健康，恶化大气环境，造成环境污染的公害事件等，也会成为半导体制造中AMC污染的重要来源。

处理方法：依据这些废气的特性，在处理上采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法，针对不同污染物，可采取以下综合处理方法：1.一般排气系统 2.酸性、碱性废气处理系统 3.有机废气处理系统

净化车间等级标准如下。

1、1级净化等级

这个级别的洁净度主要用于微电子工业，并且这也是当下对净化等级要求最高的行业了。这是由于集成电路非常敏感，哪怕是1微米的尘埃，也会对产品造成很大的影响，如影响产品的稳定性、短路，降低使用寿命。液晶、光纤的生产也需要这个净化等级。

2、10级净化等级

这个等级现在主要用于带宽小于2微米的半导体工业。其空气净化等级仅次于1级，也属于级别比较高的。我国半导体工业处在不停发展中，未来可能对于净化等级的要求会更高。

3、100级净化等级

是最常用的净化等级，这个级别对于尘埃数和空气中细菌浓度都有着明确的要求。主要应用于医药行业的无菌制造，医学科学实验中的实验动物饲养环境，遗传工程实验等。以及外科手术、移植手术等手术室环境，对细菌敏感的病人的隔离环境、烧伤病房等一般都在100级净化工程的要求之列。

此外，100级净化工程还可用于集成电路生产。1000级净化等级：一般只对尘埃浓度做要求。主要用于高质量地生产光学器件、微型轴、承测试与装配飞机的陀螺仪等。

4、10000级净化等级

一般用于液压设备或气压设备的生产，有些情况下也用于食品饮料的生产。

5、100000级净化等级

这个级别可以用于很多要求比较低的净化工程，可用于很多工业部门生产部门，食品饮料、医药工业、零件装配常常使用这一级别的净化等级。

1000000级净化等级：这个级别是最低的，表示每立方米空气中直径大于等于0.5um的灰尘粒的数量少于100万个，可用于很多对洁净度要求不是很高的行业。如印刷厂、包装厂等等。

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