2、作用:不但可以直接利用半导体现有200mm晶圆制程,达到高集成度,据以创造经济规模,还有媲美GaAs的高速特性。随着近来IDM大厂的投入,SiGe技术已逐步在截止频率(fT)与击穿电压(Breakdownvoltage)过低等问题获得改善而日趋实用。
3、SiGe既拥有硅工艺的集成度、良率和成本优势,又具备第3到第5类半导体(如砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP))在速度方面的优点。只要增加金属和介质叠层来降低寄生电容和电感,就可以采用SiGe半导体技术集成高质量无源部件。
总体上看,在当今的就业形势下,前景还可以。\x0d\x0a不知道你是哪家公司,如果你进的是台资或是国企的话,那么现在你的目标必须放在以下几个公司上:\x0d\x0aNO.1 Intel (搬迁至成都)\x0d\x0aNO.2 Amkor (上海外高桥)\x0d\x0aNO.3 Sandisk (上海闵行)\x0d\x0aNO.4 Chippac (上海青浦)\x0d\x0a??\x0d\x0a进纯外企,你的薪资会有一个较大的提升;此外,你还必须提高个人的知识素养,多学习和靠近一些高阶的封装工艺,如WLCSP等有长远发展的封装方式上。\x0d\x0a另外,如果你是设备方向,建议你转工艺,成熟后并再转向NPI。\x0d\x0a在IC封装测试行业,谈到薪资的话,如果你能进上述那些比较赚钱的公司,薪水Double是不止的。\x0d\x0a多一句:当你被猎头猎的时候,你才发现工资不再仅仅是的换工作的主要因数,你会更看重公司给你做的是什么Project。补充一下,后面的公司BAIDU一下很容易知道的,其实我只列举了部分公司供你选择,如果你需要更多的信息,可以站内发消息给我。首先是芯片技术的发展趋势。存储芯片是半导体存储器的重要组成部分,其技术的发展决定了新一代存储器的容量和性能。主流的存储芯片有DRAM存储芯片和NAND闪存芯片,其中DRAM的技术发展路径是通过工艺小型化来提高存储密度。工艺进入20nm后,制造难度大大提高。
其次是半导体制造设备细分。在国内一些晶圆厂的采购中,去胶设备国产化率接近90%,是半导体制造设备中国产化率最高的。中国半导体行业正在经历下游需求爆发带来的行业复苏和国内替代机会。非晶半导体不是物理加工,而是用化学手段直接改变原子的位置,使原来的周期性发生变化,形成非晶硅。制造过程简单,易于 *** 作,成本低,但这种物品对环境有污染,且难以分解。
再者是新型存储介质的发展趋势。新的存储介质结合了DRAM存储器的高速存取和NAND闪存断电后保留数据的特性,可以打破存储器和闪存的界限,将两者合二为一。同时,新型存储介质功耗更低、寿命更长、速度更快,因此被业界视为未来闪存和内存的替代品。然而,新的存储介质行业尚未成熟。
要知道的是中国作为半导体消费大国,内需市场依然巨大。虽然中国半导体产业发展起步较晚,与国际大公司相比仍有差距,但不可否认,中国是全球最大的集成电路产品消费市场,也是全球集成电路产业发展的重要支撑。近年来,国内半导体技术企业逐步攻克了一系列关键技术难题。大部分关键设备类型可实现国产化配套,主要零部件配套体系初步形成。一些设备已经进入国际采购系统。
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)