空气洁净度等级:
洁净空间单位体积空气中,以大于或等于被考虑粒径的粒子最大浓度限值进行划分的等级标准。国内按空态、静态、动态对无尘车间进行测试、验收,符合《GB50073-2013 洁净厂房设计规范》、《GB50591-2010 洁净室施工及验收规范》。
洁净度和控制污染的持续稳定性,是检验无尘车间质量的核心标准,该标准根据区域环境、洁净程度等因素,分为若干等级,常用的有国际标准和国内区域行业标准。
ISO14644-1国际标准—空气洁净度等级划分
GB50073-2013 国家标准—空气洁净度等级
中国GMP(2010年修订)
新版GMP附录1 无菌药品.第三章.第九条……洁净区各级别空气悬浮粒子的标准规定如下:
各国洁净度等级近似对照表
无尘车间(洁净室)等级说明:
等级定义的模式如下:
Class X (at Y μm )
其中X是无尘室的等级,例如100或10000等等,Y是粒径如0.2μm , 0.5μm等,可复选。意思就是使用者规定,该无尘室微粒含量,在这些粒径必须满足该等级的限度。这样可以减少纷争,以下是几个例子:
Class1 (0.1μm, 0.2μm , 0.5μm)
Class 100(0.2μm , 0.5μm )
Class 100(0.1μm, 0.2μm , 0.5μm )
在Classes 100 (M3.5) and Greater (Class 100,1000,10000....),一般看一个粒径即可。在Classes Less than 100 (M3.5) (Class 10,1.... ),一般要看多几个粒径。
第二个技巧是规定无尘室的状态,例如:
Class X (at Y μm ),At-rest
供货商就很清楚知道无尘室要在At-rest状态下验收。
第三个技巧是自订微粒浓度上限,一般在As-built时无尘室都很干净,微粒控制能力测试不易,这时可以干脆把验收上限压低,例如:
Class 10000 (0.3 μm <= 10000),As-built
Class 10000 (0.5 μm <= 1000),As-built
这样做的目的是确保无尘室在Operational状态时,依然有足够的微粒控制能力。
洁净室案例图集:
1、半导体行业:
黄光车间多建在百级洁净区,千级洁净区也有涉及
2、半导体洁净室(高架地板)常应用于百级和千级区域:
3、常规半导体洁净室(洁净区:万级至十万级):
4、常规洁净室:
半导体制造无尘车间洁净度等级要求比较高。按照IC生产的不同阶段匹配不同工艺,在各自工艺流程不同环节要配置相应的生产环境,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控,最普通的万级区域环境建设参数一般如下(百级千级黄光区域要求更高):1、无尘车间内的噪声级不大于65dB(A)。
2、垂直流洁净室满布比不小于60%,水平单向流洁净室不小于40%,以防止局部单向流。
3、无尘车间与室外的静压差不小于10Pa,不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不小于5Pa。
4、补偿室内排风量和保持室内正压值所需的新鲜空气量之和。
5、保证供给无尘车间洁净室内每人每小时的新鲜空气量不小于40m3。
6、净化空调系统加热器设置新风,超温断电保护。
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半导体厂房对玻璃胶的要求:
密封嵌缝材料应选择不含刺激性挥发物、耐老化、抗腐蚀的中心材料,用于表面的应加入抑菌剂。有防霉要求的场合不应用玻璃胶、硅胶类密封胶,应用中性密封胶,并应在密封胶中加入抑菌剂,涉及半导体或有耐碱要求的场合不应用硅密封胶,应避免密封胶对高风险洁净室造成污染。
半导体厂房净化等级标准
半导体器件生产环境按单位体积中规定的尘埃粒子数标准分成洁净度的等级。一般分为:10级、100级、1000级、10000级、100000级,国际标准IOS14644-1、国标GB50073-2013。
美联邦标准中均有规定洁净室和洁净区内空气以大于或等于被考虑粒径的粒子最大浓度限值进行划分的等级标准。
半导体净化车间洁净度等级标准及要求半导体特性决定其制造过程必须有洁净度要求,环境中杂质对半导体的特性有着改变或破坏其性能的作用,而杂质各式各样,如金属离子会破坏半导体器件的导电性能等,所以在半导体器件生产过程中对什么都须严格控制
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