在半导体工业中,有一道工序叫烧氢.烧氢的工艺流程如图所示.工作时,是将石英管D出口处氢气点燃.半导

在半导体工业中,有一道工序叫烧氢.烧氢的工艺流程如图所示.工作时,是将石英管D出口处氢气点燃.半导,第1张

(1)制备半导体材料应在氢气的还原性环境中进行,反应中要杜绝氧气的存在,氢气首先通过热的铜屑,以除去氢气中的氧气,涉及反应有2Cu+O2
  △  
.
 
2CuO,CuO+H2
  △  
.
 
Cu+H2O,最终氧气和氢气反应生成水而被除去,

故答案为:除去氧气;2Cu+O2

  △  
.
 
2CuO;CuO+H2
  △  
.
 
Cu+H2O;

(2)B中生成水,为防止水吸收热量而导致D中温度较低,应在C中用碱石灰或无水氯化钙吸收水,

故答案为:无水CaCl2(或碱石灰等);吸收水蒸气;

(3)点燃氢气前将E(带导管胶塞)接在D的出口处,可由于氢气的点燃,可用于检验氢气的纯度,防止氢气不纯而爆炸,故答案为:检验氢气纯度;

(4)A是安全瓶,填装铜屑,可吸收热量,降低温度,可以防止氢气燃烧回火,引起爆炸,故答案为:大量铜屑可以吸收热量,降低温度.

对于无工作经验的应届生,一般面试问题主要是是否在学校内做过项目、毕业设计内容,理论方面的话也就是一些基础性的知识。

主要还是看面试官对你的感觉吧,如果感觉老实可靠,水平不是太差就没问题的。

A:两个离子的质量相同,其带电量是1:3的关系,所以由 a=
qU
md
可知其在电场中的加速度是1:3,故A错.

B:要想知道半径必须先知道进入磁场的速度,而速度的决定因素是加速电场,所以在离开电场时其速度表达式为: v=

2qU
m
,可知其速度之比为: 1:
3
.又由 qvB=m
v 2
r
知 r=
mv
qB
,所以其半径之比为
3
:1 ,故B正确.

C:由B的分析知道,离子在磁场中运动的半径之比为:

3
:1 ,设磁场宽度为L,离子通过磁场转过的角度等于其圆心角,所以有 sinθ=
L
R
,则可知角度的正弦值之比为 1:
3
,又P + 的角度为30 0 ,可知P +3 角度为60 0 ,故C正确.

D:由电场加速后: qU=

1
2
m v 2 可知,两离子离开电场的动能之比为1:3,故D正确.

故选B,C,D.


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/9046985.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-24
下一篇 2023-04-24

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存