7nm芯片迎来突破！国产半导体逆势崛起，打破日美垄断

一直以来，半导体行业都是国内产业生产的薄弱之处，很多技术都依赖于外企。

像EUV光刻机、芯片核心制造技术以及高端光刻胶等方面，但同样我们在芯片设计、封测技术等方面也占据了世界前列的位置。

如今，随着局势的变化，华为因芯片断供产生的后续影响已经初步显现，它让国产其他相关企业认识到只有自己掌握了核心技术才能避免在这些方面受到技术上的"卡脖子"。

11月13日，根据新浪 财经 最新报道，国内光刻胶领域迎来好消息，对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。消息显示，国内宁波南大光电材料有限公司已正式宣布，首条ArF光刻胶生产线已经正式投入生产，预计项目完成后年销售额达10亿元。

目前该公司已经将生产出来的ArF光刻胶样品送至客户手中进行测试，如果测试成功，那么该公司将迎来更多ArF光刻胶方面的订单。

或许有小伙伴不太了解ArF光刻胶。

光刻胶在芯片生产中起到很关键的作用，可以说它是集成电路产生制造中的核心材料，对于芯片最终呈现的质量和性能方面都有很大的影响，因而光刻胶的成功对于生产制造芯片也有很大的帮助。

目前来说，虽然国内不乏有主营光刻胶的企业，但在ArF光刻胶这样的高端种类却几乎100%依赖于外企，而ArF光刻胶在对于28nm-7nm工艺芯片的生产起到至关重要的作用，因而可以说这一次在ArF光刻胶上的突破也预示着在7nm芯片制造上迎来突破！

根据资料显示，目前高端光刻胶主要集中于美企和日企手中，所占份额达全球光刻机份额的95%，而这一次宁波南大光电材料有限公司在ArF高端光刻胶中的突破也预示着国产半导体的逆势崛起，将打破美日企业在高端光刻胶领域上的垄断。

不过，想要避免外资企业在技术上的垄断，光靠一家公司明显后劲不足，但就如今的发展趋势来说，目前国产半导体相关企业已经纷纷在各自的领域中寻找突破之路。

上海微电子、上海华虹半导体、晶瑞股份等公司在芯片生产工艺上以及光刻机上等方面寻求突破口，照这样的趋势发展，未来国产半导体行业将迎来新生！

半导体产业的发展关系到未来的科技发展，是国家经济发展的重要支撑产业。半导体设备是半导体产业的支柱产业，主要应用于两大领域: IC制造、 IC封测。这两个行业都是技术密集型产业，长期被少数国外企业垄断，技术门槛很高。而成熟的技术，大部分都是从国外引进的，大部分配件和系统都是集成的，对国内不开放，形成了技术壁垒，导致国内的技术依赖程度很高。

在全球半导体产业的最底层，是一些劳动力密集型产业，发达国家的产业转移，中国自主创新的技术很少。国外的高科技对中国一直都是封锁的，靠外国人是不行的，中国人只能走自主研发的道路，而不是靠国外技术。但随着技术的发展，我国已经走出了一条自主创新的发展道路。被“卡脖子”的国产半导体零部件的国产化程度将会越来越高。

我国只有不断地加大对半导体产业领域的布局以及资金的支持才能够最终实现自主创新，够提升国家的科技竞争力和国家综合实力。目前我国半导体产业的发展已上升到国家战略高度，国家集成电路产业投资基金的持续投入充分体现了国家对产业的支持，国产半导体设备企业迎来了崛起的良机。中国政府通过政策推动和大基金的运用来推动产业发展，并通过并购、参股等市场化投资，提升中国半导体产业的技术水平和国际竞争力。

当前，中国正处于产业升级阶段，全球集成电路半导体和光电子企业向中国转移和产业结构调整，将极大地加快现代高新技术产业的发展步伐。新材料产业的发展，不仅将带动传统产业和支柱产业的技术进步和产品的升级，同时也将推动国家高新技术产业的整体发展和整体实力的提升。