半导体行业用的氧化铈抛光剂大概的生产工艺

半导体行业用的氧化铈抛光剂大概的生产工艺,第1张

国内外报道显示,纳米氧化铈的制备方法有多种,其中室温制备或低温制备纳米氧化铈已有报道,如室温(湿)固相化学反应法、室温自蔓延法、超声雾化法。而利用化学共沉淀法制备过程中,通常会采用高温焙烧得到不同粒径的纳米结构。本人2010年报道了采用化学共沉淀法室温下利用CTAB和氯化铈合成氧化铈纳米颗粒,并相继通过实验用化学共沉淀法室温下得到氧化铈纳米棒,纳米颗粒和纳米棒混合结构。本实验方法具有实验设备简单,低成本,反应条件简单,反应过程易于控制,反应均匀且易合成不同形貌纳米氧化铈的优点,国内外文献中尚未见其它相同报道。 本发明制备的纳米氧化铈可广泛应用于汽车尾气净化催化材料、光催化剂、防腐涂层、气体传感器、燃料电池、离子薄膜、抛光材料等方面,为社会发展和经济建设带来了巨大的影响。 近年来,纳米结构的氧化铈在印染废水治理方面也获得了国内外研究者的广泛关注,利用本发明得到的纳米氧化铈结构处理染料刚果红废水,降解在常温常压下进行, *** 作工艺简单,降解速度快,条件容易控制,节能廉价。降解率达到95%以上,降解时间快(2-180 min左右),降解产物纯净(通过实验仪器分析,染料刚果红废水基本降解完全)等优点,国内外公开文献中未见其它相同报道。本发明能高效地治理染料刚果红废水,并可以循环利用,对生态环境和人类健康将产生极大的作用。

N型。常用的n型半导体催化剂主要是ZnO、Ce02、Ti02、V205、W03、Ti02、V205、W03.来源:书名: 《应用表面化学与技术》 作者: 姜兆华 孙德智等主编 当前第:207页


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