在半导体工业中，有一道工序叫烧氢．烧氢的工艺流程如图所示．工作时，是将石英管D出口处氢气点燃．半导

（1）制备半导体材料应在氢气的还原性环境中进行，反应中要杜绝氧气的存在，氢气首先通过热的铜屑，以除去氢气中的氧气，涉及反应有2Cu+O2

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2CuO，CuO+H2

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Cu+H2O，最终氧气和氢气反应生成水而被除去，

故答案为：除去氧气；2Cu+O2

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2CuO；CuO+H2

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Cu+H2O；

（2）B中生成水，为防止水吸收热量而导致D中温度较低，应在C中用碱石灰或无水氯化钙吸收水，

故答案为：无水CaCl2（或碱石灰等）；吸收水蒸气；

（3）点燃氢气前将E（带导管胶塞）接在D的出口处，可由于氢气的点燃，可用于检验氢气的纯度，防止氢气不纯而爆炸，故答案为：检验氢气纯度；

（4）A是安全瓶，填装铜屑，可吸收热量，降低温度，可以防止氢气燃烧回火，引起爆炸，故答案为：大量铜屑可以吸收热量，降低温度．

.(1)除去氧气 2Cu+O2== 2CuO CuO+H2 == Cu+H2O (2)无水CaCl2(或碱石灰) 吸收水蒸气 (3)检验氢气纯度 (4)大量的铜屑可以吸收热量，降低温度

北京中科帅虹真空设备厂拥有现代化的氢气烧结炉，可以对金属件进行烧氢退火处理，一般可以对金属件加热到600-1000度左右的应变温度，由于在加热时采用氢气作保护气体，可以有效防止金属件的氧化，经过烧氢退火的金属件可以有效消除内部的应力，降低金属件的材料放气量，增加表面光泽度，去除表面氧化层，提高金属件的韧性，特别适合半导体的传感器片，玻璃与金属焊接件等，详情：www.vac2008.com。

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