加速质量传输是CMP获得完美表面的关键,化学反应是CMP过程的控制因素,增强化学反应可提高CMP速率。
CMP技术是半导体工艺中不可缺少的重要工艺。
cmp是比较指令, cmp的功能相当于减法指令,只是不保存结果。cmp指令执行后,将对标志寄存器产生影响。其他相关指令通过识别这些被影响的标志寄存器位来得知比较结果。比如:mov ax,8
mov bx,3
cmp ax,bx
执行后:ax=8,ZF=0,PF=1,SF=0,CF=0,OF=0.
通过cmp指令执行后,相关标志位的值就可以看出比较的结果。
半导体CMP(化学机械抛光)材料是集成电路制造关键制程材料,制造每片晶圆片,都需历经几道至几十道不等的CMP工艺步骤。CMP材料价值量约占芯片制造成本的7%,其中抛光垫价值量约占CMP耗材的33%。CMP抛光垫具有较高行业壁垒,目前被陶氏、Cabot等海外公司垄断约90%市场欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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