镍的蚀刻缓冲液配方，越详细越好，还有使用温度！

先通入过量NH3，让Fe3+沉淀为Fe(OH)3，过滤掉；剩下的溶液里主要还存在[Ni(NH3)4]2+、[Zn(NH3)4]2+和Cl-。向其中加入过量HCl让氨合离子重新解离出来，再点解此溶液，会有Ni析出（电压不要太大，Ni2+会先于Zn2+放电），得到的固体就基本是Ni了，如果纯度不达到要求，则可以进一步提纯。

正规的镍（镍合金）蚀刻液配方里，由以下几种化学材料组成：

1、游离氢。

2、硝酸根。

3、磷酸根。

4、金属离子。

温度：30-45摄氏度。

蚀刻方式：浸泡、泼溅、喷淋，皆可。

在此基础上，加入氟，可蚀刻钴合金。

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蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。蚀刻原理通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。曝光法：工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK网印法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK减少侧蚀和突沿，提高蚀刻系数，侧蚀产生突沿。通常印制板在蚀刻液中的时间越长，（或者使用老式的左右摇摆蚀刻机）侧蚀越严重。侧蚀严重影响印制导线的精度，严重侧蚀将使制作精细导线成为不可能。

当侧蚀和突沿降低时，蚀刻系数就升高，高的蚀刻系数表示有保持细导线的能力，使蚀刻后的导线接近原图尺寸。电镀蚀刻抗蚀剂无论是锡－铅合金，锡，锡－镍合金或镍，突沿过度都会造成导线短路。因为突沿容易断裂下来，在导线的两点之间形成电的桥接。

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