不同的镀层厚度要求也不一样
问题问得太笼统,常规镀层是几个微米,封装上的凸点也有上百微米的
老大,是LF的镀银层,还是电流的镀银层。
电镀。上面写错了。
QFN 上PPF镀层较多吧, 具体金层5奈米左右, 钯几十奈米,镍1微米左右。
常用的镍银或镍金层一般1~3微米吧。镍层较厚, 要起阻挡层作用嘛。
另外镀的方法上有电镀和EN镀,镀层表面质量不一样。
分立半导体器件的电镀一般采用纯锡或锡基和金电镀,这几年由于欧洲RoHS指令生效,纯锡电镀较为流行。纯锡电镀有Wisker的问题,所以镀层厚度的最小值一般要求超过8微米,并配合150C回火。
不同的封装工艺,对镀层的要求不尽一样,所以我认为业界没有固定的标准。只要能做到满足可靠性就可以了.
200-600微英寸
半导体ni元素用在:化学、石油、食品及饮料工业的外包装上,以防止腐蚀、防止产品污染及保持产品纯洁等作用。「镍」因为具有优良的物理、机械及化学特性,所以在工程及工业上的应用颇多,比如说拿来防腐蚀、增加硬度、耐磨擦及感磁性等应用。
其主要被用于合金的配方中,如镍钢、镍铬钢、镍铜等来增加其抗腐蚀及抗氧化的能力,因为其抗氧化能力佳,所以早期也常被用来制成货币。
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