紫外-可见光光谱(Ultraviolet–visible spectroscopy,UV-Vis),又称紫外-可见分子吸收光谱法。
紫外-可见分光光度法是在190~800nm波长范围内测定物质的吸光度,用于鉴别、杂质检查和定量测定的方法。当光穿过被测物质溶液时,物质对光的吸收程度随光的波长不同而变化。因此,通过测定物质在不同波长处的吸光度,并绘制其吸光度与波长的关系图即得被测物质的吸收光谱。
从吸收光谱中,可以确定最大吸收波长λmax和最小吸收波长λmin。物质的吸收光谱具有与其结构相关的特征性。因此,可以通过特定波长范围内样品的光谱与对照光谱或对照品光谱的比较,或通过确定最大吸收波长,或通过测量两个特定波长处的吸收比值而鉴别物质。
用于定量时,在最大吸收波长处测量一定浓度样品溶液的吸光度,并与一定浓度的对照溶液的吸光度进行比较或采用吸收系数法求算出样品溶液的浓度。
显微分光光度法
显微镜样品的紫外可见光谱是通过将光学显微镜与紫外可见光学器件,白光源,单色仪和灵敏的检测器(如电荷耦合器件(CCD)或光电倍增管(PMT))集成在一起完成的。由于只有一条光路可用,因此它们是单光束仪器。现代仪器能够测量微米级采样区域的反射率和透射率中的紫外线可见光谱。
使用此类仪器的优势在于,它们能够测量微观样品,但也能够以高空间分辨率测量较大样品的光谱。因此,它们在法证实验室中用于分析单个纺织纤维中的染料和色素,微观油漆碎片和玻璃碎片的颜色。它们还用于材料科学和生物学研究,以及通过测量镜质体反射率来确定煤和石油烃源岩的能量含量。
显微分光光度计用于半导体和微光学行业,用于在沉积薄膜后监控薄膜的厚度。在半导体行业中,使用它们是因为电路的关键尺寸是微观的。半导体晶片的典型测试将需要从已图案化或未图案化的晶片上的许多点获取光谱。
沉积膜的厚度可以从干涉图案计算出光谱 此外,紫外可见分光光度法可用于确定厚度以及薄膜的折射率和消光系数,如薄膜材料的折射率和消光系数所述。然后可以生成整个晶片上的膜厚图,并将其用于质量控制目的。
以上内容参考 百度百科-紫外-可见分光光度法
UV测试标准:ISO 4892.3:2013 GB/T 16422.3-2014 ASTM G 154-2013
UV测试适用产品:
塑料片材,各种非金属材料外壳,灯具,油漆油墨
UV测试流程:
1.确定样品
2.确定条件
3.是否判定 (确定判定依据:1.客户要求 2.标准判定)
4.出结果,出试验报告
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UVLED检测光源可以应用在这几个行业,如下:1. SMT行业: 对位光源系统, AOI自动光学检测系统,元件的焊接质量检测等;
2. 半导体行业:缺陷检测,印刷内容检测,芯片引脚完整性检测
3. 制造行业:工序漏检,加工表面粗糙度检检验
4. 印刷行业:条码区分,颜色确认,印刷质量检测
5. 包装行业
6. 食品行业
7. 医疗行业
8. 电子装配行业
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