不同厚度、不同掺杂类型、不同密度、不同表面状况等的半导体材料,光吸收系数都不相同。
顺便说一句,因为光吸收系数与材料的介电常数虚部直接有关,所以不同厚度、不同掺杂浓度和不同密度的材料,其介电常数也将不相同。
不同。不同厚度、不同掺杂类型、不同密度、不同表面状况等的半导体材料,光吸收系数都不相同。
顺便说一句,因为光吸收系数与材料的介电常数虚部直接有关,所以不同厚度、不同掺杂浓度和不同密度的材料,其介电常数也将不相同。
半导体外延生长厚度是500-800微米。通过气相外延沉积的方法在衬底上进行长晶,与最下面的衬底结晶面整齐排列进行生长,新生长的单晶层称为外延层,长了外延片的衬底称为外延片。作为衬底的硅片根据尺寸不同,厚度一般在500-800微米,常用的外延层厚度为2-100微米。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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