mos是半导体金属氧化物。
氧化物半导体具有半导体特性的一类氧化物。氧化物半导体的电学性质与环境气氛有关。导电率随氧化气氛而增加称为氧化型半导体,是p型半导体。
电导率随还原气氛而增加称为还原型半导体,是n型半导体;导电类型随气氛中氧分压的大小而成p型或n型半导体称为两性半导体。非单晶氧化物可用纯金属高温下直接氧化或通过低温化学反应(如金属氯化物与水的复分解反应)来制备。
mos的特点
氧化物半导体材料的平衡组成因氧的压力改变而改变,氧原子浓度决定其导电的类型。由于金属和氧之间的负电性差别较大,化学键离子性成分较强,破坏这样一个离子键要比共价键容易,使它含有的点缺陷浓度较大,所以化学计量比偏离对材料的电学性质影响也大。
如化学计量比偏离缺氧时(或金属过剩时),则此氧化物半导体材料即呈现n型,此时氧空位或间隙金属离子形成施主能级而提供电子。
属于此类半导体材料的有ZnO、CdO、TiO2、Al2O3、SnO:等。例如:ZnO化学计量比偏离缺氧时:与上相反则呈p型半导体,此时金属空位将形成能级而提供空穴,属于此类半导体材料的有:C u2O、NiO 、CoO、FeO、Cr2O3。等。
amorphous semiconductor非晶形半导体, 无定形半导体
binary semiconductor
二元(化合物)半导体
compensated semiconductor
补偿半导体
complementary symmetry metal oxide semiconductor
互补对称金属氧化物半导体
compound semiconductor
化合物半导体
covalent semiconductor
共价半导体
defective semiconductor
不良半导体, 有缺陷半导体
degeneracy semiconductor
简并半导体
degenerate semiconductor
简并半导体
deplete semiconductor
耗尽型半导体, 贫乏型 半导体
depleting-layer semiconductor
耗尽层半导体
direct band-gap semiconductor
直接跃迁半导体
direct-gap semiconductor
直接带隙半导体
element semiconductor
单质半导体, 元素半导体
excess semiconductor
过剩半导体
fused semiconductor
熔凝半导体
gallium arsenide semiconductor
呻化镓半导体
gas sensory semiconductor
气敏半导体
indirect gap semiconductor
间接能隙半导体
inhomoge-neoussemiconductor
不均匀半导体
integratedsemiconductor
集成半导体
intermetallic semiconductor
金属间半导体
intrinsic semiconductor
本征半导体, 纯半导体, 无杂质半导体
liquid semiconductor
易变半导体
magnetic semiconductor
磁性半导体
many-valley semiconductor
(有多谷形能带的)多谷型半导体
metal-oxide semiconductor
金属氧化物半导体
mixed semiconductor
混合半导体
monoatomic semiconductor
单质半导体
non-polar semiconductor
非极性半导体
oxidation type semiconductor
氧化型半导体
oxide semiconductor
氧化物半导体
photosensitive semiconductor
光敏半导体
piezoelectric semiconductor
压电半导体
plastic semiconductor
半导体塑料
polar semiconductor
极性半导体
polymer semiconductor
聚合半导体
power semiconductor
功率半导体器件
proper semiconductor
固有半导体, 本征半导体
pure semiconductor
纯半导体, 本征半导体
reduction type semiconductor
还原型半导体
ternary semiconductor
三元化合物半导体
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