华为在5G取得绝对领先地位后,美国开始经常制造麻烦,在此过程中,华为首当其冲,成为美国打击的焦点。特别是2020年,美国对华为在芯片方面展开全方位封锁。此外,我国在半导体领域起步晚,再加上处处面临技术垄断,华为陷入了前所未有的芯片危机。这不是华为一家的危机,而是整个中国科技市场的危机。因此,2020年,我国所有半导体企业全力突破半导体技术,突破美国壁垒,努力尽快实现自主性。
光刻机是芯片制造生产中最重要的设备,也是目前世界先进工艺的代表。我国在半导体领域的不足,其实很大程度上是因为光刻技术的落后。对此,中科院特别成立了科研小组,专门突破。当然,在此之前,我国也尽力从ASML成功购买光刻机。最终,在当今社会,ASML光刻机的生产技术引人注目。但是,由于美国的阻挠,我国未能将这一目标变为现实。在此之前,ASML宣布将扩大对中国市场的部署,但到目前为止,我国也没有成功地从ASML总部购买最先进的光刻机器。在其他渠道,我国仍然有许多企业获得了ASML的光刻机。一家名叫信阳的公司,来自上海,花费1亿元成功购买了三台ASML光刻机。
据悉,上海申阳此次购买的光刻机均为ASML-1400型号。该模型实际上不是ASML目前最先进流程的代表,只能用于生产55纳米芯片。而且这三个光刻机也是二手的。另外3台ASML光刻机!目的不是为了生产芯片。上海申阳计划不是为了芯片的生产开发,而是应用于芯片生产的核心材料——照片光刻的开发和测试。这与之前决定书半导体公司从SK海力士购买ASML二手光刻机器的用途相同。尽管如此,上海申阳到目前为止只完成了一台光刻机的安装和测试工作。今年1月5日,上海申阳正式宣布,其余两台光刻机将于3月完成相应的安装部署。至此,三台ASML光刻机均已就位,将有助于光刻机的研发工作。
光刻作为芯片开发中最重要的材料,将直接影响生产的芯片质量。相关调查显示,目前的光刻技术已经达到KrF和ArF光刻水平,占全球光刻的64%。特别是对于一些高科技产品,KrF和ArF两种照片寄存器都适用。这两个光刻市场都掌握在美日两国,特别是日本企业手中。我国在光刻水平上停留在PCB低端光刻阶段。当然,低端光刻市场在我国占94.4%,但在KrF和ArF等高端光刻中,市长/市场份额仅为1.6%。因此,ArF光刻胶已经成为国家02专业领域的重点攻略项目。
其中,去年12月,南大光电在ArF取得突破性进展,成功通过了客户使用认证阶段。据悉,该光刻将用于最高7纳米芯片生产,这毋庸置疑,我国在芯片生产技术的突破上再次取得重大进展。同月,上海申阳也在ArF干法光刻及KrF厚膜光刻研究中取得成功,2022年将成功实现KrF厚膜光刻的量产,一年后将顺利实现ArF干法光刻的量产。这种自然和成功购买的三个ASML光刻机器的使用是不可分割的。
光刻胶生产技术的成功突破将使美国在芯片生产上对我国产生更少的壁垒,我国也将在此基础上进一步加快芯片研发进程。当然,有些人可能会说,我们国家芯片生产研发取得了这样的成果,但还需要使用外国吗?事实是事实,但我们需要明确的一点是,芯片的生产、研究和开发不是一蹴而就的,而是目前科学技术的代表性产品之一,强调循序渐进。约翰肯尼迪,Northern Exposure(美国电视),我们可以加快速度,但这并不意味着我们必须跳过其中的一个阶段,跳跃。只有脚踏实地,才能实现真正的突破。世界未来的芯片市场也必将因中国的成功加入而发生翻天覆地的变化。
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