工业上以石英和必要的试剂为原料制取半导体材料纯硅的各步反应方程式 (1) (2) (3)

工业上以石英和必要的试剂为原料制取半导体材料纯硅的各步反应方程式 (1) (2) (3),第1张

SiO2+2C=2CO+Si(高温,得到粗硅)

MnO2+4HCl=MnCl2+Cl2+2H2O(加热)

C+H2O=CO+H2(高温)

制纯硅

Si+2Cl2=SiCl4(加热)

SiCl4+2H2=Si+4HCl(加热)

(1)由 的构成可知,该物质是由不同元素组成纯净物,属于化合物

(2)由反应的微观过程图可,反应物是一种单质和化合物,生成物是另一种单质和另一种化合物,属于置换反应;

(3)由反应的微观过程图可知,反应物是碳和二氧化硅,生成物是一氧化碳和硅,反应的方程式是:SiO2+2C═2CO↑+Si.

故答为:(1)化合物;(2)置换;(3)SiO2+2C═2CO↑+Si.

设理论上需要二氧化硅的质量为x.

SiO 2 +2C

高温
.
Si+2CO↑

6028

x 21kg

60
x
=
28
21kg

x=45kg

答:理论上需要二氧化硅的质量为45kg.


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