p型半导体掺入3价元素。是硼、铟、镓等。在半导体材料硅或锗晶体中掺入三价元素杂质可构成缺壳粒的P型半导体,掺入五价元素杂质可构成多余壳粒的N形半导体。
要产生较多的空穴浓度就需依赖掺杂或缺陷。在纯净的硅晶体中掺入三价元素(如硼),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成P型半导体。
对于Ⅳ族元素:
半导体(锗、硅等)需进行Ⅲ族元素的掺杂对于Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体(如砷化镓),常用掺杂Ⅱ族元素来提供所需的空穴浓度。
在纯硅中掺入微量3价元素铟或铝,由于铟或铝原子周围有3个价电子,与周围4价硅原子组成共价结合时缺少一个电子,形成一个空穴。空穴相当于带正电的粒子,在这类半导体的导电中起主要作用。
重要的半导体材料硅、锗等元素的原子最外层都具有四个价电子。大量的硅、锗原子组合成晶体靠的是共价键结合。这种结构的特点是:每个原子周围有四个最近邻的原子组成一个正四面体结构。这四个原子分别处在正四面体的顶角上,任意顶角上的原子和中心原子各贡献一个价电子为该两个原子所共有,共有的电子在两个原子之间形成较大的电子云密度,通过它们对原子的引力把两个原子结合在一起,这就是共价键。这样,每个原子和周围四个原子组成四个共价键。在20世纪50年代初期,锗曾经是最主要的半导体材料,但自60年代初期以来,硅已取而代之成为半导体制造的主要材料。现今人们使用硅的主要原因,是因为硅器件工艺的突破,硅平面工艺中,二氧化硅的运用在其中起着决定性的作用,经济上的考虑也是原因之一,可用于制造器件等级的硅材料,远比其他半导体材料价格低廉,在二氧化硅及硅酸盐中硅的含量占地球的25%,仅次于氧。到目前为止,硅可以说是元素周期表中被研究最多且技术最成熟的半导体元素。
半导体的导电能力介于导体和绝缘体之间,半导体之所以得到广泛应用,是因为它的导电能力受掺杂、温度和光照的影响十分显著。
(1)半导体的电导率随温度升高而迅速增加。半导体对温度敏感,体积又小,热惯性也小,寿命又长,因此在无线电技术、远距离控制与测量、自动化等许多方面都有广泛的应用价值。
(2)杂质对半导体材料导电能力的影响非常大。例如,纯净硅在室温下的电阻率为2.14 109欧姆·厘米,若掺入百分之一的杂质(如磷原子),其电阻率就会降至2000欧姆·厘米。虽然此时硅的纯度仍旧很高,但电阻率却降至原来的一百万分之一左右,绝大多数半导体器件都利用了半导体的这一特性。
(3)光照对半导体材料的导电能力也有很大的影响。例如,硫化镉薄膜的暗电阻为几十兆欧,然而受光照后,电阻降为几十千欧,阻值在受光照以后改变了几百倍。半导体的这种性质,使其成为自动化控制中的重要元件。
(4)除温度、杂质、光照外,电场、磁场及其他外界因素(如外应力)的作用也会影响半导体材料的导电能力。
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