半导体行业有用到超声波清洗机吗?

有啊，比如清洗半导体硅片。随着半导体材料技术的发展，对硅片的规格和质量也提出更高的要求，适合微细加工的大直径硅片在市场的需求比例将日益加大。半导体,芯片,集成电路,设计,版图,芯片,制造,工艺目前世界普遍采用先进的切、磨、抛和洁净封装工艺，使制片技术取得明显进展。最新尖端技术的导入，使SOI等高功能晶片的试制开发也进入批量生产阶段。对此，硅片生产厂家也增加了对300mm硅片的设备投资，针对设计规则的进一步微细化。利用超声波清洗技术，在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，带动清洗液形成细微回流，使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，提高清洗效率。

超声波清洗方法及其放置方向

将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上，在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下，利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗，超声波频率为40KHz，每5分钟将研磨硅片翻一个面，连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止。超声波清洗单晶硅片装置清洗槽的槽壁上设有进水口和出水口，槽底部下方设有超声波振子，清洗槽槽内设有一搁置单晶硅片的框架，框架底壁为栅栏状的石英棒形成的平面低于去离子水水平面，整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内。

具体实施时，石英棒距离清洗槽的底壁为15厘米。清洗时，单晶硅片可以平置在石英棒上，将现有的竖超洗改成平超洗，消除了单晶硅片在竖超洗状态下，污染物会残留堆积在硅片表面，形成局部区域清洗不干净，以及承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡掉超声波源的传递，从而造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象，具有结构更简单、用水量大大减少的优点。

清洗管式炉用的石英管的方法：

1、可以用氢氟酸清洗；

2、用发烟硝酸或是热浓硫酸洗或浸泡3到五分钟，必要时再或是重复几次都可以洗净。

3、高温烧，蒸汽吹。

可以找个毛刷沾着去污粉刷看看是否可以刷掉。可以氢氧化钠及氢氧化钾的溶液清洗。如果是金属或者无机物可以用王水泡一会，再进行清洗。或者利用高温烘烤，看看是否把白色物体给挥发掉。

虽然管式炉的石英管耐高温性好，耐侵蚀，但是管式炉在长期使用并温度达到八百度以上，那么石英管会慢慢结晶并变成不透明，也就是我们看到的白色物体，对于这样的物体，普通的清洗方法是没办法清洗掉的。

扩展资料：

石英管物理性能：

1、热稳定性好

石英玻璃的热膨胀系数极小，能承受剧烈的温度变化，将石英玻璃加热至1100℃左右，放入常温水中也不会炸裂。

2、透光性能好

石英玻璃在紫外线到红外线的整个光谱波段都有较好的透光性能，可见光透过率在93%以上，特别是在紫外光谱区，最大透过率可达80%以上。

3、电绝缘性能好

石英玻璃的电阻值相当于普通玻璃的一万倍，是极好的电绝缘材料，即使在高温下也具有良好的绝缘性能。

石英玻璃由于具有上述优良的理化性能，因此被广泛的应用于电光源、半导体、光通信、军工、冶金、建材、化学、机械、电力、环保等各个领域。

4、缺点：易碎。

参考资料来源：百度百科-石英管

您好，可以使用1%的盐酸浸泡基本上一天，之后用超声波清洗仪清洗三遍。第一、二遍先用自来水清洗，最后一遍用蒸馏水清洗。浸泡盐酸时要保证每个孔都浸泡到，用超声波清洗仪清洗时需先甩干板里的液体，然后再让每个孔浸满液体，重复3次，洗好后再用高压锅高压，再烘干。

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