薄膜测厚仪的工作原理和特点是什么？

在被测量的薄膜上垂直照射可视光，光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层之间的界面反射，薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。利用白光干涉测量法的原理，它用一个宽波段的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率n和k随薄膜的不同而变化，根据这一特性进行曲线拟合从而求得膜厚。不同类型材料的相应参数通过不同的模型来描述，从而保证了不同类型材料膜厚测量的准确性。

大成精密设备薄膜测厚仪采用非放射性先进测量技术，是测量隔膜厚度的理想解决方案。

如果对厚度测量的要求不是特别精确，那么台阶仪相对较高，那么就使用椭偏仪。

光学薄膜测厚仪(光谱测厚仪系列)核心技术介绍及原理讲解广州金都科恩精密仪器有限公司为您解答:光谱测厚仪系列具有非接触无损测量、无需样品预处理、软件支持Windows *** 作系统等特点，ST系列是一种使用可见光测量在晶片和玻璃等基底上形成的氧化膜、氮化膜、光刻胶和其他非金属膜厚度的仪器。测量原理如下:用可见光垂直照射待测晶片或玻璃上的薄膜。在此期间，一部分光在薄膜表面反射，另一部分光穿透到薄膜内部，然后在薄膜与底层(晶片或玻璃)的界面反射。此时，从薄膜表面反射的光和从薄膜底部反射的光发生干涉。SpectraThick系列就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。仪器的光源为钨灯，波长范围为400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这个原理，测量区域的直径是4微米到40微米(2微米到20微米可选)。ST8000-Map作为K-MAC最重要的产品之一，具有图像处理功能，是超越一般膜厚测量仪极限的新概念测厚仪。被测区域的最小直径为0.2μm，远远超过一般测厚仪的测量极限(4μm)。只有依次测量几十个点才能得到的厚度图，也可以一次测量得到，大大提高了速度和精度。这项技术已经获得专利。韩国K-MAC SpectraThick系列的另一个优点是在一般仪器无法测量的粗糙表面(如铁板、铜板)上形成的膜厚也可以测量。这是一种叫做视觉厚度的新概念的测量原理。除了测量薄膜厚度之外，它还具有测量透射率、在玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻、接触角等功能。目前国内外半导体行业和光刻胶行业很多知名企业都选择了K-MAC膜厚仪。广州金都科恩精密仪器有限公司是中国的总代理，您可以通过访问企业网站了解更多关于不同应用仪器的信息。。产品说明:本仪器是将紫外-可见光照射在被测物体上，利用被测物体反射的光来测量薄膜厚度的产品。本产品主要用于导电膜领域的研发或生产，特别是作为半导体在线监测仪器及相关显示工作。产品特点1)由于使用的是光，所以是非接触、非破坏性的，不会影响实验样品。2)可以获得薄膜的厚度和n、k数据。3)测量快速准确，不需要对测量用实验样品进行破坏或处理。4)可以测量3层以内的多层膜。5)可根据应用自由选择手动或自动类型。6)产品风格多样，也可根据客户要求设计产品。7)晶圆/LCD(载物台尺寸3”)上可测量的薄膜厚度8)桌面型，适用于大学、研究实验室等。

楼主你可以了解下立仪科技的测厚仪，他们的设备在半导体硅片、锗、碳化硅、氮化镓、第三代半导体材料厚度，平面度，品圆翘曲，蚀刻深度、分割槽深度等领域有着非常不错的应用，而且测量数据精准可靠，仪器 *** 作也简单。

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