如Si 是目前集成电路中常用的材料,最外层电子是4个。
1、通过掺杂B(最外层3个电子),可以形成受主能级,让价带产生大量空穴,从而实现导电,这是第一种:P型半导体。根据电中性原理(Nd ≈ n ,其中Nd为受主能级的电离杂质浓度)。
2、通过掺杂P(最外层4个电子),可以形成施主能级,让导带产生大量电子,从而实现导电,这是第二种:N型半导体。根据电中性原理(Na ≈ p ,其中Na为施主能级的电离杂质浓度)。
3、不掺杂,既为本征半导体,自由移动的电子与空穴成对出现ni^2=n * p ; n = p,所以n、p的量均较小。所以本征半导体不导电或者说电导率很低。
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)