半导体metro是什么工艺

metro是metrology的简称，是半导体芯片过程工艺控制的一种，在前道测试设备也称作过程工艺控制中（Semiconductorprocesscontrol），可以进一步细分为缺陷检测（inspection）和量测（metrology）主要进行物理和功能性方面的测试，在晶圆生产过程中，每完成一步工艺都需要用相应的测试设备来检测产品良率和缺陷。

视频版： https://www.bilibili.com/video/BV15B4y1T7Q7

mesh网格模型可以通过顶点，

以及顶点按顺序连接形成的面元来建立3D模型，

要生成一个人体的3D mesh，

SMPL是一种常用的参数化方法，

基于23个关节的人体模型，

输入和比较少的85个参数，

10（β体型）+72（姿态）+3个参数（相机），

输出6890个顶点，以及一万多个面元。

针对手部也有类似的参数化模型比如说Mano，

许多基于深度学习的方法通过学习这些参数来估计姿态，

不过这篇今年六月份的工作没有使用这些参数，

而是直接估计了关节点以及mesh模型的431个顶点（人体），

再通过MLP上采样到原标准的6890个顶点的位置。

paper： https://arxiv.org/pdf/2012.09760.pdf

github： https://github.com/microsoft/MeshTransformer

该方法相比之前的模型取得了相当大的进步，

Metro的核心思想就是寻找

各个关节以及顶点之间的依赖关系

这个依赖关系怎么找呢，嗯还是Transformer，

啊我感觉已经说烦了。。。。

不了解的同学建议好好学一学attention，入股不亏。

这里的输入序列是23个关节和431个顶点，

位置编码用的是一个人体mesh模板的3D坐标进行标记。

本来的特征长度是2048维的，加上这个3D坐标就变成了2051维。

损失函数用的都是L1损失，

包括关节点以及顶点在三维空间的位置损失，

以及关节点投影到2D的位置损失。

然后通过再通过类似BERT的掩码语言模型进行训练，

简单点理解就是完形填空，

作者称之为Masked Vertex Modeling 掩码顶点模型，

如果增加遮掩的顶点数量，表现可以得到提升，

当30%的顶点被遮掉后差不多就饱和了。

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