欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
隧道击穿和雪崩击穿是pn结两种不同的击穿机制。pn结在反向高压下会发生击穿。其中雪崩击穿指势垒边缘扩散进势垒区的电子和空穴在高场下加速,获得极大动能。它们与势垒区的晶格原子碰撞,使其价电子电离,获得新的自由电子和空穴,由此1生2,2生4,载流子不断倍增,最终导致pn结击穿。隧道击穿也叫齐纳击穿,可以用量子力学中的隧道效应来解释,随着反向偏压的不断增大,势垒区的价电子势能增大,而势垒区宽度降低,此时pn结穿两端电子与空穴穿过势垒的几率增大,由此大量载流子隧穿而引起反向电流增大,击穿pn结。随着反向电压的不同,隧道击穿与雪崩击穿可单独或同时存在,具体可以参见教科书《半导体物理基础》。MOSFET击穿有很多原因,常见的有静电作用击穿,过温度击穿,过电压击穿,过电流击穿,还有就是生产过程的 *** 作使MOSFET破裂致在上电后击穿。在开关电源中MOSFET击穿常见的现象就是炸机。
赞
(0)
打赏
微信扫一扫
支付宝扫一扫
有关于碳纳米管储氢(非专业人士请勿近)
上一篇
2023-04-25
日本为什么不担心芯片和光刻机的问题?
下一篇
2023-04-25
评论列表(0条)