半导体镀膜工艺是什么

半导体镀膜工艺是什么,第1张

镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD:物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材(金靶,铜靶,Al,Cr.....),金属原子脱离靶材,落在wafer表明,形成薄膜。CVD:化学气相沉积。这个是通过化学反应,在晶圆表面张氧化薄膜。

半导体指纹锁镀膜使用寿命较短,一般只能用2年左右,因为它非常容易被硬物刮花,比如手指甲,耐静电能力差,只有5000伏,冬天人体的静电都有可能把指纹头击穿。

具体介绍

一、镀膜简介

现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜,单层增透膜可使反射减少至 1.5%,多层增透膜则可让反射降低至 0.25%,所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜,光线透穿率可达 95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色,镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色 。

二、原理

为了提高镜头的透光率和影像的质量,在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理,在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物),使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。

三、注意事项

镀膜车身温度不能过高(30°以上),在专业施工车间内进行施工,有风沙时应注意房间密封,镀膜施工完成后车辆不可在阳光下曝晒,防止药剂层溶化,药剂层要薄而均匀,并且要注意工作服,袖口不要蹭坏药剂层,严禁登踏车门边框上药剂,严禁身体紧挨车身,外饰件,玻璃、橡胶件沾上药剂时及时擦除,有些车天窗密封件用的是纺织材料,事先应将其用美纹纸遮挡覆盖,避免沾上药剂。


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