李兰娟受到国家级表彰，还有哪些人和她一样也受到国家级表彰？

最近宣布的第53号主席令受到了网友们的广泛关注。其内容是表彰在这次新冠疫情中有杰出贡献的人民英雄，其中钟南山院士获得共和国勋章，陈薇、张伯礼和张定宇三人则获得人民英雄称号。和李兰娟院士一样，他们也在抗疫的第一线为我们保驾护航。

钟南山院士，呼吸系统疾病专家。在我国2003年和2020年这两次疫情中都深入一线展开救援，指导我国疫情期间的救治方向。特别是在2020年新冠疫情期间，钟南山院士没有半刻犹豫，以84岁的高龄前往救治一线，对病毒的传染以及救治展开了深入的研究。提出了居家隔离，实行居家禁足防止病毒传染的策略并取得了巨大成功。在我国，病毒很快得到了控制。钟南山院士的努力为我们的生命安全提供了厚厚的一层保障，挽救了成千上万人的生命，共和国勋章名副其实。

陈薇院士，疫苗研制专家，长期从事生物防御新型疫苗和生物新药研究。在两次疫情中，对病毒疫苗的研发做出了巨大贡献。在SARS病毒中，首先研制出了相应的干扰素，从而找到了相应的抗体，为SARS病毒的治疗往上提高了一个高度。最近，新冠疫情也迎来了重大喜讯，面对新冠病毒的疫苗已经研制完毕，在市场上可以购买。中国也成为世界首个拥有新冠病毒疫苗的国家，陈薇院士的成果，为我国人民对抗新冠病毒的防治以及预防做出了巨大贡献。

除了这几位收到国家表彰的院士们，还有许多的医护工作者值得我们敬佩。在抗击新冠疫情期间，有千千万万的医护人员毫不犹豫奔赴前线，不顾生命危险守护在抗疫的一线。我们的岁月并非如此安好，只是因为有人在为我们负重前行。

因为两种表面张力不同的液体，他们的界面中因为张力的梯度的存在，使其质发生量移动的现象，便是科学上称为马兰戈尼效应的现象。

当两相之中的界面存在着表面的张力明显的梯度的时候，马兰戈尼效应就会由此发生。马兰戈尼效应经常在气液界面产生，当溶质中的浓度、表面活性剂中的浓度和沿界面的温度有着明显的波动时，其表面张力也会随着改变而改变。

在某些共晶的液体中，也可能是在组分液体中，通过改动表面的溶质中的浓度和添加一种名为表面活性剂的物质都可以使与界面相紧挨的表面张力梯度的方向发生改变，有的流体会产生较为强烈的一种对流性质的运动。这种运动会在表面发生一种名为剪切应力的力，就像是风产生力一样。当表面张力会因为浓度的改变而改变时，马兰戈尼效应也可以称为科学上的溶质毛细效应；表面张力会因为温度的变化而变化，也可以称为热毛细效应。溶质毛细效应与热毛细效应也有着同时发生的可能性。

需要注意，我们容易把马兰戈尼效应与纯毛细效应 这两种现象混为一谈。毛细力的作用会让界面呈现弯月的形状，就是我们平常见到的水滴的形状。液滴的大小根据表面张力 和静水压力 之间的平衡的状态来决定。 

当同时满足两种作用的时候，弯液面和溶质从液体的表面发生蒸发的现象的时候，有概率会从液体表面出生浓度梯度的现象。会发生这种现象的原因在于，溶质比弯液面在平面上的蒸发速度有过之无不及，溶液内部中的溶质到平坦的表面会更加的容易。由此可以说明毛细效应与马兰戈尼效应之间的内在联系。

第一章　总则第一条　为了保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展，制定本条例。第二条　本条例下列用语的含义：

（一）集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；

（二）集成电路布图设计（以下简称布图设计），是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置；

（三）布图设计权利人，是指依照本条例的规定，对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织；

（四）复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；

（五）商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。第三条　中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。

外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。第四条　受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。

受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。第五条　本条例对布图设计的保护，不延及思想、处理过程、 *** 作方法或者数学概念等。第六条　国务院知识产权行政部门依照本条例的规定，负责布图设计专有权的有关管理工作。第二章　布图设计专有权第七条　布图设计权利人享有下列专有权：

（一）对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制；

（二）将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。第八条　布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。

未经登记的布图设计不受本条例保护。第九条　布图设计专有权属于布图设计创作者，本条例另有规定的除外。

由法人或者其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。

由自然人创作的布图设计，该自然人是创作者。第十条　两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。第十一条　受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定或者约定不明的，其专有权由受托人享有。第十二条　布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。第十三条　布图设计专有权属于自然人的，该自然人死亡后，其专有权在本条例规定的保护期内依照继承法的规定转移。

布图设计专有权属于法人或者其他组织的，法人或者其他组织变更、终止后，其专有权在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或者其他组织享有；没有承继其权利、义务的法人或者其他组织的，该布图设计进入公有领域。第三章　布图设计的登记第十四条　国务院知识产权行政部门负责布图设计登记工作，受理布图设计登记申请。第十五条　申请登记的布图设计涉及国家安全或者重大利益，需要保密的，按照国家有关规定办理。第十六条　申请布图设计登记，应当提交：

（一）布图设计登记申请表；

（二）布图设计的复制件或者图样；

（三）布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；

（四）国务院知识产权行政部门规定的其他材料。第十七条　布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记。

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