半导体工业中使用它来除去硅表面的氧化物。由于氢氟酸溶解氧化物的能力,它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃,可以雕刻图案、标注刻度和文字;氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成,比如Teflon(聚四氟乙烯)还有氟利昂一类的致冷剂。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能完全电离,所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。具有极强的腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。实验室一般用萤石(主要成分为氟化钙)和浓硫酸来制取,需要密封在塑料瓶中,并保存于阴凉处。
1、由于氢氟酸溶解氧化物的能力,它在铝和铀的提纯中起着重要作用。
2、氢氟酸也用来蚀刻玻璃,可以雕刻图案、标注刻度和文字;
3、半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物,在炼油厂中它可以用作异丁烷和正丁烯的烷基化反应的催化剂,除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。
4、氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成,比如Teflon(聚四氟乙烯)还有氟利昂一类的致冷剂。
扩展资料物理性质
市售通常浓度:溶质的质量分数40%,工业级;质量分数40%,电子级。为高度危害毒物。最浓时的密度1.18g/cm3
随着HF溶液质量分数的提高,HF对碳钢的腐蚀速率是先升高后降低。
化学性质
浓度低时因形成氢键具有弱酸性,但浓时(5mol/L以上)会发生自偶电离,此时氢氟酸就是酸性很强的酸了。
液态氟化氢是酸性很强的酸,酸度与无水硫酸相当,但较氟磺酸弱。腐蚀性强,对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。
参考资料:百度百科-氢氟酸
Q: 半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用 :乙醇酸和氢氟酸混合可以用来清洗半导体表面。当这两种酸混合在一起时,它们会发生反应,产生氟化物,并形成一层薄膜,从而起到清洁的作用。乙醇酸有助于去除污垢,氢氟酸可以去除金属的氧化物。此外,乙醇酸也可以帮助去除金属的氧化物,使金属表面光滑。因此,乙醇酸和氢氟酸混合可以有效地清洁半导体表面,从而使半导体元件具有良好的性能。
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