薄膜测厚仪的测量原理是什么？精度可以达到多少？

在被测量的薄膜上垂直照射可视光，光的一部分在膜的表面反射，另一部分透进薄膜，然后在膜与底层之间的界面反射，薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光产生干涉现象。利用白光干涉测量法的原理，它用一个宽波段的光源来测得不同波长的反射数据，由于反射率n和k随薄膜的不同而变化，根据这一特性进行曲线拟合从而求得膜厚。不同类型材料的相应参数通过不同的模型来描述，从而保证了不同类型材料膜厚测量的准确性。

大成精密设备薄膜测厚仪采用非放射性先进测量技术，是测量隔膜厚度的理想解决方案。

涂层膜厚测试仪被广泛应用于测量从0.1到50微米各种薄膜材料的厚度。无论单层或多层薄膜，简单的球磨测试都能快速准确的测定每一层薄膜的厚度。典型的试样包括CVD、 PVD、等离子喷射涂层、阳极氧化薄膜、离子溅射薄膜、化学和电镀沉积镀膜、高分子薄膜、涂料、釉漆等等。

原理：一个半径精确已知的磨球由自身重力作用于镀膜试样表面并进行自转。在测试过程中，磨球与试样的相对位置以及施加于试样的压力保持恒定。磨球与试样间的相对运动以及金刚石颗粒研磨液的共同作用将试样表面磨损出一球冠形凹坑。 随后的金相显微镜观测可以获得磨损坑内涂层和基体部分投影面积的几何参数。在得知了X和Y的长度后，涂层的厚度D可以通过简单的几何公式计算得出。

如果对厚度测量的要求不是特别精确，那么台阶仪相对较高，那么就使用椭偏仪。

光学薄膜测厚仪(光谱测厚仪系列)核心技术介绍及原理讲解广州金都科恩精密仪器有限公司为您解答:光谱测厚仪系列具有非接触无损测量、无需样品预处理、软件支持Windows *** 作系统等特点，ST系列是一种使用可见光测量在晶片和玻璃等基底上形成的氧化膜、氮化膜、光刻胶和其他非金属膜厚度的仪器。测量原理如下:用可见光垂直照射待测晶片或玻璃上的薄膜。在此期间，一部分光在薄膜表面反射，另一部分光穿透到薄膜内部，然后在薄膜与底层(晶片或玻璃)的界面反射。此时，从薄膜表面反射的光和从薄膜底部反射的光发生干涉。SpectraThick系列就是利用这种干涉现象来测量薄膜厚度的仪器。仪器的光源为钨灯，波长范围为400 nm ~ 800 nm。从ST2000到ST7000使用这个原理，测量区域的直径是4微米到40微米(2微米到20微米可选)。ST8000-Map作为K-MAC最重要的产品之一，具有图像处理功能，是超越一般膜厚测量仪极限的新概念测厚仪。被测区域的最小直径为0.2μm，远远超过一般测厚仪的测量极限(4μm)。只有依次测量几十个点才能得到的厚度图，也可以一次测量得到，大大提高了速度和精度。这项技术已经获得专利。韩国K-MAC SpectraThick系列的另一个优点是在一般仪器无法测量的粗糙表面(如铁板、铜板)上形成的膜厚也可以测量。这是一种叫做视觉厚度的新概念的测量原理。除了测量薄膜厚度之外，它还具有测量透射率、在玻璃上形成的ITO薄膜的表面电阻、接触角等功能。目前国内外半导体行业和光刻胶行业很多知名企业都选择了K-MAC膜厚仪。广州金都科恩精密仪器有限公司是中国的总代理，您可以通过访问企业网站了解更多关于不同应用仪器的信息。。产品说明:本仪器是将紫外-可见光照射在被测物体上，利用被测物体反射的光来测量薄膜厚度的产品。本产品主要用于导电膜领域的研发或生产，特别是作为半导体在线监测仪器及相关显示工作。产品特点1)由于使用的是光，所以是非接触、非破坏性的，不会影响实验样品。2)可以获得薄膜的厚度和n、k数据。3)测量快速准确，不需要对测量用实验样品进行破坏或处理。4)可以测量3层以内的多层膜。5)可根据应用自由选择手动或自动类型。6)产品风格多样，也可根据客户要求设计产品。7)晶圆/LCD(载物台尺寸3”)上可测量的薄膜厚度8)桌面型，适用于大学、研究实验室等。

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