半导体镀膜工艺是什么

镀膜工艺一般是PVD和CVD。PVD：物理气相沉积。通过plasm轰击金属靶材（金靶，铜靶，Al，Cr.....），金属原子脱离靶材，落在wafer表明，形成薄膜。CVD：化学气相沉积。这个是通过化学反应，在晶圆表面张氧化薄膜。

1、cvd用原料化合物及其制造方法及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀法

2、cvd用原料化合物及铱或铱化合物薄膜的化学气相蒸镀方法

3、cvd用原料化合物以及钌或钌化合物薄膜的化学气相蒸镀方法

4、彩色阴极射线管及其制造方法和蒸镀用复合材料

5、层压薄膜和使用它的蒸镀薄膜

6、除尘装置、蒸镀机台及以其进行清洁遮罩的方法

7、带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置

8、等离子体蒸镀设备防止凝缩装置

9、电激发光显示板的制造方法及蒸镀遮罩

10、电激发光元件的制造方法及蒸镀遮罩

11、改进型蒸镀方法

12、高温超导薄膜双面蒸镀技术及其装置

13、金属蒸镀薄膜、其制造方法及使用它的电容器

14、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装备的电极固定装置

15、利用等离子体的高分子膜连续蒸镀装置清洗方法

16、利用蒸镀夹具的手机外壳emi层真空蒸镀方法及夹具

17、连续式蒸镀溅镀机

18、免蒸镀的硬式带式自动焊接封装方法

19、锌蒸镀薄膜及金属化薄膜电容器

20、掩模蒸镀方法及装置、掩模及其制造方法、显示板制造装置

21、氧化镁蒸镀材料

22、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置

23、一氧化硅蒸镀材料及其制造方法

24、一种利用强电场的真空热蒸镀成膜方法

25、一种用于半导体激光器腔面蒸镀的非接触固定方式的夹具

26、阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法

27、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜

28、用于镭射压印蒸镀的双向拉伸聚丙烯基膜及其制造方法

29、用于生产高折射率光学涂层的蒸镀用材料

30、用于制作有机电致发光显示器的蒸镀装置

31、有机el元件制造用蒸镀装置的室内的清洗方法

32、有机场致发光膜蒸镀用蒸镀源

33、有机发光二极管蒸镀机台

34、有机膜蒸镀方法

35、在光学基片上蒸镀镀膜的方法

36、在光学基片上蒸镀镀膜的真空镀膜设备

37、真空电弧蒸镀方法及装置

38、真空蒸镀设备用的蒸镀装置

39、蒸镀材料及其利用该材料制造光学薄膜

40、蒸镀材料其制备方法和用该材料制备光学涂层方法

41、蒸镀方法及显示装置的制造方法

42、蒸镀方法及蒸镀装置

43、蒸镀膜

44、蒸镀掩模及制法、显示装置及制法以及具有其的电子机器

45、蒸镀用坩锅

46、蒸镀用掩模及其制造方法

47、蒸镀装置

48、蒸镀装置

49、蒸镀装置

50、蒸镀装置

51、直接蒸镀用树脂组合物、使用该组合物的模塑制品以及表面金属化处理的灯罩

52、制作电致发光显示器的、使用电磁铁的蒸镀装置及采用此装置的蒸镀方法

蒸镀概念在真空环境中，将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀，或叫真空镀膜。 蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。蒸镀优点1.能在金属、半导体、绝缘体甚至塑料、纸张、织物表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有机聚合物等的薄膜，其适用范围之广是其它方法无法与之比拟的2.可以不同的沉积速率、不同的基板温度和不同的蒸气分子入射角蒸镀成膜，因而可得到不同显微结构和3.结晶形态（单晶、多晶或非晶等）的薄膜4.薄膜的纯度很高5.易于在线检测和控制薄膜的厚度与成分。厚度控制精度最高可达单分子层量级6.排出污染物很少且基本上没有，无“三废”公害；

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