据semiwiki报道，预计 3nm 节点的金属间距约为 22nm。这对 EUV 光刻技术的使用提出了一些新的挑战。这些挑战针对0.33NA 与 0.55NA 系统的一些挑战是不同的。   对于 0.

自今年二季度以来，由于消费类电子市场对于半导体需求持续下滑，再加上新增晶圆制造产能的陆续开出，众多晶圆代工厂的产能利用率都出现了下滑。继7月有大陆成熟制程晶圆代工厂率先降价10%之后，近日有消息称，台

今年最受期待的演讲之一来自英特尔，他在展会上概述了即将推出的英特尔 4 工艺的物理和性能特征，该工艺将用于定于 2023 年发布的产品。英特尔的发展4 工艺对英特尔来说是一个重要的里程碑，因为它是英特

High-NA EUV 有望将芯片制造工艺缩小到埃级别，为具有更高晶体管数量的芯片和全新的工具、材料和系统架构浪潮奠定基础。在年初的 SPIE 高级光刻会议上，英特尔光刻硬件和解决方案总监 Mark

【导读】：EUV2014年底，公司创立“euv”童装品牌，"Enjoy Euer Value"，为享受用户价值而生！倡导“品质 慢生活”品牌理念，坚持“匠心、安全、舒适”的产品理念...EUV是中国品

据semianalysis报道，他们正在密切跟踪的一个项目是光刻支出如何随着各种节点缩小而演变。这项研究最初是从28nm开始，然后从第一代 FinFET 节点发展到第一个 EUV 节点，再到第一个 G

1月12日，台积电对外公布财报，其2016年年营收创下历史新高，达到299.57亿美元。其中，先进工艺制程营收贡献显著。1620纳米制程去年第四季度出货占比达到33%，28纳米制程第四季度出货占比达

巴隆周刊（Barrons）报导，艾司摩尔（ASML）上周公布上季财报亮眼，并宣布已接到新一代极紫外光（EUV）微影机台六部订单，有分析师推测，台积电可能订走了其中五台，即一口气买下5.5亿美元的设备。

如果历史可以重演的话，日本人Takanashi一定会重新选择申请专利的时间。1984年，正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征，即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜

电子发烧友早八点讯： 极紫外光（EUV）微影技术持续取得重大进展。在日前于美国加州圣荷西举行的国际光电工程学会（SPIE）年度会议上，英特尔（Intel）与三星（Samsung）的专家表示，EUV正缓

半导体制造工艺是集成电路产业的核心，未来摩尔定律是否还能主宰产业发展就得看半导体工艺是否能在10nm以下的工艺继续突破了，而在这个问题上，荷兰ASML公司的EUV光刻机何时成熟就是个关键了。上周ASM

电子发烧友早八点讯： 在日前于美国举行的西部光电展（Photonics West）上，业界多家厂商探讨了极紫外光（EUV）微影所需的250W光源、具有发展前景的红外线与近红外线摄影机，以及利用雷射发光

与正在蓬勃成长的中国芯片制造业一样，中国的半导体设备业正在迎来新的曙光。据北方华创微电子的消息，它在2017年1月的订单量已经超过去年第一季度的总量。半导体设备位于芯片制造业的上游。半导体行业历来对于

台积电将与竞争对手Globalfoundries三星联盟公开比拚7纳米制程技术细节…在一场将于12月举行的技术研讨会上，晶圆代工大厂台积电（TSMC）将与竞争对手Globalfoundries、三星

今日芯闻早报：三星焦头烂额仍砸钱买EUV追赶台积电；和辉光电宣布建六代AMOLED厂；iPhone 7风潮可望拉抬半导体封测业绩表现；Apple Watch占33.5%份额继续领先；小米VR眼镜 20

全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔（ASML）宣称它的Q2收到4台EUV订单，预期明年EUV发货达10台以上。EUV光刻设备一再延迟，而最新消息可能在2020年时能进入量产，而非常可能应用在5nm节点

尽管所花的时间与成本几乎比所有人预期得要多，半导体产业终于还是快要盼到极紫外光(extreme ultraviolet，EUV)微影技术的大量生产──在近日于美国旧金山举行的2017年度Semicon

“继续向下推进新的制程节点正变得越来越困难，我不知道它（摩尔定律）还能持续多久。” 在与IMEC首席执行官Luc van den Hove的访谈中，戈登·摩尔如是说。作为世界领先的独立纳米技术研究中心

EUV被认为是推动半导体产业制造更小芯片的重要里程碑，但是根据目前的EUV微影技术发展进程来看，10奈米（nm）和7nm制程节点已经准备就绪，就是5nm仍存在很大的挑战。EUV微影技术将在未来几年内导