短沟道_内存溢出

技术

MOS管短沟道效应及其行为建模

1　引　言目前,实现微电路最常用的技术是使用MOS晶体管。随着科学技术的发展,集成电路的集成密度不断地在提高,MOS晶体管器件的尺寸也逐年缩小, 当MOS管的沟道长度小到一定值之后,出现的短沟道效应将

快压
2022-8-14
8 0 0 0

Error[2]: array_keys() expects parameter 1 to be array, null given, File: /www/wwwroot/outofmemory.cn/tmp/view_template_wqo_wpcom_htm_tag.htm, Line: 137

File: /www/wwwroot/outofmemory.cn/tmp/view_template_wqo_wpcom_htm_tag.htm, Line: 137, array_keys()
File: /www/wwwroot/outofmemory.cn/tmp/route_tag.php, Line: 115, include(/www/wwwroot/outofmemory.cn/tmp/view_template_wqo_wpcom_htm_tag.htm)
File: /www/wwwroot/outofmemory.cn/tmp/index.inc.php, Line: 174, include(/www/wwwroot/outofmemory.cn/tmp/route_tag.php)
File: /www/wwwroot/outofmemory.cn/index.php, Line: 30, include(/www/wwwroot/outofmemory.cn/tmp/index.inc.php)

MOS管短沟道效应及其行为建模