电化学抛光的原理

电抛光原理：

电抛光是电解抛光的简称。工件放入特定溶液中进行阳极电解，使金属表面平滑并产生金属光泽的过程称为电抛光。

电抛光时，工件接阳极。通电时工件表面会产生电阻率高的稠性黏膜，其厚度在工件表面不均匀。表面微观凸出部分较薄，电流密度较大，金属溶解较快；表面微观下凹处较厚，电流密度较小，金属溶解较慢。由于稠性黏膜和电流密度分布的不均匀性，微观凸起部分尺寸减少较快，微观下凹处尺寸减少较慢，使工件表面粗糙度降低，从而达到抛光的目的。

电抛光后工件性能变化：1）工件表面光洁度增加，提高了反光能力；2）摩擦系数及表面硬度，金属的电子冷发射能力均下降；3）工件耐腐蚀性及磁导率提高；4）对工件疲劳强度有影响。

电抛光优点：1）表面无冷作硬化层；2）形状复杂，线材、薄板及细小工件均适用电抛光；3）生产效率高，易 *** 作。缺点：1）应用范围受限制：2）无法除去工件表面的宏观划痕、麻点等表面缺陷。

化学抛光

在一定溶液中，不用外接电源，依靠化学浸蚀作用完后抛光过程的工艺称为化学抛光。与电抛光比较，化学抛光不用直流电源和导电挂具；可抛光形状复杂及各种尺寸的工件；生产效率高。但溶液使用寿命短，溶液浓度及再生较困难。而且，化学抛光主要用于工件装饰性加工，特别适合处理形状复杂及较大的工件。

电解抛光（ Electrolytic Polishing）原理现在世界各界人士争论很多，被大家公认的主要为黏膜理论。该理论主要为：工件上脱离的金属离子与抛光液中的磷酸形成一层磷酸盐膜吸附在工件表面，这种黏膜在凸起处较薄，凹处较厚，因凸起处电流密度高而溶解快，随黏膜流动，凹凸不断变化，粗糙表面逐渐被整平的过程。

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