台积电PK三星7纳米制程 EUV成为关键

三星虽然距离台积电还有距离，但是在芯片代工的技术上确也是猛追。2016年5月9日报道，依据2015年市场数据，IC Insights和高德纳咨询公司日前宣布三星已成为全球第四大芯片制造商。但是三星距离头号芯片制造商台湾积体电路制造公司(TSMC)还是有很大距离。2015年，TSMC的销售额将近200亿美元(约合人民币1303.31亿元)，市场份额接近55%。而三星只有34亿美元(约合人民币221.56亿元)的销售额和5.3%的市场份额。

1月12日，台积电对外公布财报，其2016年年营收创下历史新高，达到299.57亿美元。其中，先进工艺制程营收贡献显著。16/20纳米制程去年第四季度出货占比达到33%，28纳米制程第四季度出货占比达到24%。三星和英特尔都希望在7纳米制程与台积电争夺市场，现在进展如何，请看下面是台湾technews最新报道。
 
“7纳米是很重要的节点，是生产工艺第一次转向EUV的转折点。三星和台积电都宣布了将采用EUV(极紫外光微影)技术在7纳米，而EUV是摩尔定律能够进一步延续到5纳米以下的关键。” Gartner(中国)研究总监盛陵海表示。
 
台湾经济日报的消息，环保署环评大会昨天通过攸关台积5纳米先进制程布局的南科环境境影响差异分析案。台积电表示，此案通过让台积5纳米制程基地有着落，最快将在今年动工，目标在2020年量产，迎战强敌三星和英特尔。

三星、台积电10 纳米技术量产，7 纳米制程战火持续升高！而且随着关键的微影技术来到瓶颈，7 纳米制程技术也变成新一轮制程技术的关键之战。

除了三星在去年年中传出急购EUV 机台，力拼2017 年底量产7 纳米，台积电在上周12 日法说会首度明确指出，在7 纳米制程第二年，就会导入EUV 减少光罩层数，至5 纳米制程全面采用EUV。台积电总经理暨共同执行长刘德音曾透露，10 纳米与7 纳米将有95% 设备是共用，也因此台积电此前表明，至5 纳米才会正式转进EUV，现在三星、台积电在7 纳米将一前一后用上EUV，先进制程也正式宣告进入新一阶段技术竞赛。

随着先进制程来到10 纳米以下，制程微缩瓶颈一一浮现，尤其是制程中难度最高的微影技术，目前主流多采用193 纳米浸润式微影技术，但从65 纳米制程到现在一路突破物理极限至目前10 纳米，面临的不只是物理上的瓶颈，愈来愈复杂的图形造成曝光次数增加，光罩成本也跟着倍增。摩尔定律价格不变，积体电路上可容纳的电晶体数量每隔18~24 个月会增加一倍的目标变得窒碍难行，极紫外光（EUV）微影就被视为摩尔定律能持续往下走的关键。

EUV先前因光源强度与生产量未达经济效益，迟迟未能量产。据目前EUV设备制造商艾司摩尔（ASML）在去年11月EUVL Workshops透露的进度，EUV光源强度已能达到125W，预计2018年能达到光源强度250W，可支持每小时生产125片晶圆的量产目标。届时三星与台积电正好走至7纳米制程。距离台积电2020年5纳米量产，EUV或许更能接近浸润式微影设备每小时能生产逾200片晶圆的生产效益。

晶圆制造商先前已陆续安装EUV 进行试产，三星在2015 年7 月即携IBM，利用EUV 打造7 纳米芯片原型，2016 年中再有消息指出，三星砸重金采购新的NXE 3400 EUV 机台，将于7 纳米就导入EUV 技术以力抗台积电等对手。而台积电先前即拥有两台NXE 3300 EUV 设备，据悉在今年第一季又再引进了两台NXE 3400，另外，有消息指出，艾司摩尔大客户在7 纳米同样有意导入EUV。从艾司摩尔18 日的最新数据，加上2016 年第四季再获得的4 台订单，目前EUV 设备累积订单数量已达18 台。

然EUV 机台并不便宜，一台EUV 光刻机要价逾1 亿美元，是其他微影技术设备金额的两倍，这场制程竞赛，比技术也比银两，竞争门槛跟着愈垫愈高。