什么是化学机械作用研磨液？

化学机械作用研磨液：化学机械作用研磨液利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的抛光表面，是机械削磨和化学腐蚀的组合技术，它借助超微粒子的研磨作用和化学腐蚀作用在被研磨的介质表面形成光洁平坦表面。所以化学机械作用研磨液又称为化学机械抛光液(Chemical Mechanical Polishing,简称CMP)。在一定压力及抛光浆料存在下，被抛光工件相对于抛光垫作相对运动，借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合，在被研磨的工件表面形成光洁表面。

财联社（上海，编辑 黄君芝）讯， 据报道，英特尔公司（Intel Corp.）正向监管部门强烈反对一项针对芯片制造一种关键原料的进口禁令，并称此举将加剧原本已“岌岌可危”的芯片短缺。

据悉，英特尔正试图劝阻美国国际贸易委员会（ITC）对Optiplane研磨液的禁令。杜邦目前在日本和中国台湾地区生产该研磨液，不过杜邦这项产品被指控侵犯了美国CMC Materials Inc.的技术专利，ITC可能在12月16日宣布禁止Optiplane进口美国。

全球最大的芯片制造商英特尔表示，“在没有24个月过渡期的情况下，禁止美国半导体芯片生产线使用Optiplane研磨液，可能会与国家安全和经济利益相冲突。”

CMC旗下的卡博特微电子（Cabot Microelectronics）称Optiplane使用Cabot的“尖端”技术，在抛光半导体层的浆料中提取二氧化硅颗粒，Cabot将这种成分用于其iDiel系列研磨液。

这些研磨液用于半导体制造过程的不同步骤，“它们之间的细微差异对制造环境产生了巨大的影响，”英特尔说。

全球半导体短缺已经影响到经济的方方面面。仅 汽车 行业就将损失超过2,000亿美元的销售额，由于缺芯他们无法生产出足够多的 汽车 来满足需求。

美国国际贸易委员会的禁令对英特尔的冲击可能超过一些竞争对手，因为英特尔更严重地依赖其美国工厂。据悉，在这起案件中代表公众利益充当第三方的ITC律师，支持英特尔将进口禁令推迟24个月的呼吁。

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