芯片国产化的大潮下，国内的半导体产业链屡次有好消息传出。尤其是在各互联网大厂、 科技 巨头们入局的情况下，国产芯片的发展已然驶入快车道。
作为国内的头部手机品牌，vivo的历代机型在摄影摄像方面，都表现不俗。 无论是独家的微云台防抖技术，还是蔡司光学影像系统的加持，都表明vivo在影像实力方面的积累。
然而，对于智能手机的影像能力而言，最核心的决定性因素，还是影像芯片。 而众所周知，影像芯片市场的主要玩家，一直都是三星、索尼等国际厂商。
但如今，vivo的入局有望打破这一垄断局面。 根据vivo官方的说法，自研芯片V1已经大规模量产，且将在9月份的旗舰新机vivo X70系列上首发搭载。
作为vivo自研的第一颗专业级影像芯片，V1的问世不仅对于vivo提高影像赛道护城河具有重要意义，对于国产影像芯片的自研，也起到很好的带头作用。
除了vivo，另一互联网大厂百度，也在百度世界大会2021上，带来了最新的自研AI芯片——百度昆仑芯2。
根据百度的说法， 第二代昆仑芯片搭载的是7nm工艺制程，与第一代相比，性能提升了2-3倍，可以应用于自动驾驶、智慧交通等多个领域。目前，第二代昆仑芯片已经实现量产。
其实，百度在AI芯片领域早有布局。根据新华网在8月19日的报道， 百度在2011年便开始布局AI芯片的研发，并进行了AI技术的全领域布局。
毕竟，百度搜索的数亿用户以及百度智能云等产品，都可以为百度AI芯片的研发提供基础和绝佳的应用场景。换言之，百度入局AI芯片领域，具有先天优势。
而AI赛道无疑也是如今的热门赛道之一。 百度的入局，也为国产AI芯片在这场“AI革命”中抢占了先机。
智能 汽车 市场的火热，带动了自动驾驶技术的研究。而在整个自动驾驶系统中，自动驾驶芯片无疑是最为核心的存在。
今年8月份，国内的自动驾驶厂商地平线正式发布征程5系列芯片。 作为地平线推出的第三代车规级芯片产品，征程5在算力和性能方面都有更大提升，集自动驾驶和智能交互为一体，已满足量产需求。
对于国内的自动驾驶市场而言，征程5的发布无疑是一大重要突破。根据虎嗅网此前的报道，一直以来，顶级车用芯片市场一直被国际巨头垄断。
在自动驾驶芯片市场，英伟达、特斯拉、高通、瑞萨等外企一直是主要玩家，国内企业依赖进口的局面亟待被打破。
而地平线征程5芯片的发布，无疑为整个国产自动驾驶芯片的产业化破局撕开了一道口子。
可以看到，国产芯片在多个细分领域正在加速突破。尤其是在越来越多头部企业入局的情况下，中国芯的春天将加速到来。
文/YUXI
国外掌握大量的芯片制造技术，在芯片制造领域，很多顶级的设备，材料都需要从国外进口。因为对国外有非常大的芯片依赖，导致我国每年的芯片进口额都在3000亿美元以上。
去年美国对中国企业实施芯片规则，导致中国企业失去了采购芯片，代工芯片的渠道。被芯片卡脖子以后，中国也在加紧自研，尽全力攻克一系列的技术。
有众多优秀的中国半导体企业参与其中，国产芯片也再传好消息，成功掌握3个关键制造环节技术，打破西方垄断。
第一项技术：离子注入机
和光刻机一样，离子注入机也是芯片制造过程中必不可少的核心设备之一。通过离子注入机可以实现对半导体材料，集成电路的离子注入，从而完成对半导体金属材料的改性及制膜等等。
而中国在离子注入机就取得了相应的突破，由中国电科旗下的附属装备集团，成功打造出离子注入机的全谱系产品国产化，可实现对28nm工艺的覆盖。
中国对应的芯片制造环节缺陷，也被弥补。
第二项技术：刻蚀机
中国刻蚀机巨头中微半导体取得了关键突破。在过去的几十年中，中微公司从默默无闻的小企业，成为全球五大刻蚀机设备供应商之一。
在台积电的5nm生产线中，就采用了中微半导体的12英寸高端刻蚀机设备。另外中微半导体取得的关键突破在于3nm刻蚀机Alpha 原型机，这一设备已经实现从设计到测试一系列的开发，评估。
刻蚀机的作用在于，通过纳米级别的技术，在集成电路硅片上实现晶体管线路图的雕刻。到了高端刻蚀机级别，能够在上千层的集成电路中完成刻蚀任务。
如果把芯片比作大楼，那么刻蚀机的任务就是在几百，几千层的大楼中，完成每一个楼层的精装修。
精确程度要实现每一楼层的微小复刻，把设计图纸上的所有细节，都完美刻蚀出来。如此复杂的刻蚀机设备，对芯片制造的作用性不亚于光刻机。
第三项技术：光刻胶
芯片制造涉及到非常多的工艺，步骤。在正式进入到芯片制造之前，需要在硅片上涂抹光刻胶。通过光刻胶的作用，让硅片保持完整，并确保每一个晶体管，集成电路都能得到保护。
这样在后续的刻蚀，离子注入过程中，都能顺利进行。品质越是高端的光刻胶，效果就越好。日本占据全球光刻胶的主要市场，并达到了垄断水准。
中国光刻胶企业不负众望，以南大光电为代表，成功实现Arf光刻胶产品的客户验证。并实现小批量出售。
不只是南大光电，此前晶瑞股份曾花费七千多万人民币购买了一台ASML光刻机，虽然是二手的，但是对研发28nm高端光刻胶也有重大意义。
另外上海新阳采购的ASML光刻机也有多台进入到生产线，对参与国产高端光刻胶的研发都是有巨大帮助的。
中国芯片在离子注入机、刻蚀机、光刻胶这三大芯片制造环节技术中，都取得了相应的突破进展。有研究报告显示，中国将在近两年内实现28nm芯片的自给自足。有能力应对中低端成熟工艺芯片的自主研发，生产。
国产芯片正在逐步打破西方国家的垄断，在实现技术自主可控这一方面，中国企业持之以恒，势必能助力中国芯片的崛起。3个关键芯片制造环节或许只是冰山一角，还有更多的技术，产品及设备都在研制当中。
中国会掌握更多的芯片制造技术，光刻机、芯片制程等等，都难不住中国半导体。相信只要有足够的时间，再大的困难都能一一克服。
对此，你有什么看法呢？
自从进入信息时代之后，我们国内的 科技 水平得到了迅速的提升，在各个领域都掌握了一定的核心技术，与某些发达国家的差距也越来越小。但需要注意的是，目前国内还有一项关键技术设备急需攻克，关乎到国产芯片事业的发展，那就是光刻机！
对于光刻机，相信大家都不陌生，它是芯片制造过程中必不可少的设备，没有光刻机就无法生产出任何芯片，这是整个半导体行业的普遍认知。之前，大多数人都没有听说过光刻机，但随着华为芯片事件的影响，让国内意识到了光刻机的重要性。
华为的芯片之所以会被美国规则制约，就是因为它没有制造能力，需要含有美国技术的代工厂供应。而我们国内在芯片制造领域也处于比较弱势的地位，虽然能自主生产出一些中低端芯片，但是对于7nm、5nm等先进制程的芯片就无能无力了！
正因于此，失去了代工合作伙伴之后，华为面临着芯片短缺的问题，并且放大了国产技术的不足之处。其实在芯片的设计和封测方面，国内的实力非常出色，根本不输于国外。但让人无奈的是，由于缺少光刻机的支持，导致国内始终未能完全攻克芯片制造！
为了进一步促进国产芯片的发展和帮助华为走出困境，国内下定决定要全面布局光刻机。据了解，国内 科技 水平最高的机构中科院已经在朝着这个方向前进了，未来将会集中全院的力量来攻克光刻机等容易被国外“卡脖子”的技术！
可以预料的是，在中科院的支持下，国产光刻机肯定能不断地取得进展，这项难题很快就会被解决。不仅如此，最近中科院正式官宣，2项技术取得突破，难度堪比光刻机！也就是说，除了光刻机之外，中科院又攻克了2项难度极高的技术！
第一项技术是新型OLED显示材料，中科院李亚东院士主导的量产化项目已经开工奠基了！OLED是现在各种屏幕的主要材质，拥有着非常广阔的市场，而之前大部分的市场份额都被韩国的三星拿走了，我们国内只能分到一小部分。
虽然国产屏幕厂商京东方对OLED材料也有一定的研究，但是与三星相比，差距依然存在。为了弥补这种差距，中科院出手了，李亚东院士带领的新型OLED材料研究团队正在努力攻关，或许要不了多久国产OLED屏幕就能实现对三星的代替！
OLED屏幕对于手机、电脑等电子产品而言，是不可缺少的，所以中科院的研发工作很有必要。只要国产屏幕能够得到人们的认可，就可以占据更大的市场，从而获得更好的发展空间！
中科院突破的第二项技术关于芯片，为国产半导体公司提供了一个新的发展方向。据悉，在中科院的上海微系统研究所，8英寸石墨烯晶圆登场了，并且已经可以量产！这意味着国内对碳基芯片的研究领先于世界，如果能将晶圆完美切割，那么真正的碳基芯片就会诞生！
一直以来，芯片采用的都是硅基半导体材料，虽各方面的表现都还不错，但是只要达到了极限，就无法继续进步。所以全球很多国家开始把目标放在了碳基芯片上，它的性能和稳定性更强，一旦突破，绝对会引起半导体行业的变革。
现在看来，国内在碳基芯片领域已经取得了领先的地位，8英寸石墨烯晶圆的登场代表着国产芯片或许能够实现“换道超车”！但这还不够，国产芯片要想成功崛起，必须继续向前进步，碳基芯片和硅基芯片都要抓住！
中科院宣布的两个好消息，对于国产技术而言，有着重要的意义，还能够促进国内很多企业的发展！相信以后国内一定能不断地突破各种核心技术，实现 科技 强国的目标，让我们拭目以待！
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