半导体行业有用到超声波清洗机吗?

有啊，比如清洗半导体硅片。随着半导体材料技术的发展，对硅片的规格和质量也提出更高的要求，适合微细加工的大直径硅片在市场的需求比例将日益加大。半导体,芯片,集成电路,设计,版图,芯片,制造,工艺目前世界普遍采用先进的切、磨、抛和洁净封装工艺，使制片技术取得明显进展。最新尖端技术的导入，使SOI等高功能晶片的试制开发也进入批量生产阶段。对此，硅片生产厂家也增加了对300mm硅片的设备投资，针对设计规则的进一步微细化。利用超声波清洗技术，在清洗过程中超声波频率在合理的范围内往复扫动，带动清洗液形成细微回流，使工件污垢在被超声剥离的同时迅速带离工件表面，提高清洗效率。

超声波清洗方法及其放置方向

将被洗研磨硅片水平状放置在清洗槽底部上方栅栏状的石英棒框架上，在确保清洗槽内具有去离子水高度并不断流动的条件下，利用设在清洗槽底部的超声波振子进行清洗，超声波频率为40KHz，每5分钟将研磨硅片翻一个面，连续超洗至被超洗的研磨硅片表面没有黑色污染物冒出止。超声波清洗单晶硅片装置清洗槽的槽壁上设有进水口和出水口，槽底部下方设有超声波振子，清洗槽槽内设有一搁置单晶硅片的框架，框架底壁为栅栏状的石英棒形成的平面低于去离子水水平面，整个框架由支撑脚支撑在清洗槽内。

具体实施时，石英棒距离清洗槽的底壁为15厘米。清洗时，单晶硅片可以平置在石英棒上，将现有的竖超洗改成平超洗，消除了单晶硅片在竖超洗状态下，污染物会残留堆积在硅片表面，形成局部区域清洗不干净，以及承载硅片的软体花篮会吸附和阻挡掉超声波源的传递，从而造成硅片表面局部区域清洗不干净的现象，具有结构更简单、用水量大大减少的优点。

鱼缸底座下花篮，可以直接使用干净的抹布，蘸取少量的中性洗衣液擦洗。如果有顽固物质的，可以使用牙刷蘸取洗衣液擦，反复多擦几次就干净了。然后再使用干净的湿抹布擦干就可以了。鱼缸底座下的花篮一般是不锈钢的，也有硬塑料做成的。也建议根据不同的材质来选择合适的方式清洗。

我们来看看鱼缸的一般清洗方法。

鱼缸的清洗方法用抹布擦：若只是想简单清洗一下鱼缸，可以准备一根比较细的管子，然后在它的上面套上一块抹布，并且将其固定好。然后，将其伸入鱼缸之中，简单清理一下就可以了。另外，也可以将鱼缸中的水都放掉，然后用抹布将鱼缸彻底擦拭一遍。这种方式也是比较普遍的，可以每个月一次，比较方便，清洗的效果也是比较好的。

刷子和牙膏：若是想彻底清洗鱼缸的内表面，可以借助刷子这个工具，可以用的清洗物质等。可以用刷子蘸上适量的盐，刷过之后会比较干净。

还可以用刷子和牙膏等物质，清洗的效果会更好一些。另外，若是想让清洗的效果更好，消毒杀菌的效果更好，则可以用一些专门消毒的物质，比如消毒水等等。不过，需要注意这类物质不能放太多，不然对鱼类的健康会造成一定程度危害。

硅片花篮是在硅片加工过程中用来承载硅片的，简单的说，硅片是由硅锭切割而成，这时的硅片有很多杂质，需要清洗等工艺。这些工艺是把硅片放在花篮里，花篮就是一个载具。若再不明白，可以发到我邮箱[email protected],我再帮您解释。

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