中国的光刻机达到了世界先进水平，但为何生产高端芯片依然困难重重？

018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。

▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍

刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam

Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron

Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies)

4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。

中科院SP超分辨光刻机

提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。

该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。

▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机

该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

▲中科院研发的光刻机镜头

目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

▲中科院SP光刻机加工的样品

然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机（SP光刻机）的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。

据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。

总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。

显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。

1.主频是单核心的主频，不叠加

2.没错，4个核心同时工作

3.不会快，因为4个核心都是线程级的

除非双核心cpu占用100%，那么增加核心

效果很明显，游戏里的速度多半是受显卡

制约的，显卡的处理核心多达数百个

跟CPU没啥关系。给你个结论，如果你不

多开（双开，三开），提高核心数量不如

提高核心频率。

不会少用1秒，因为你的载入进程只在一个核心上运行

而载入如果用1分钟的话，大部分时间都是用在读盘上

而处理部分如果没有多线程优化，不能并行运行的话

多核和单核没区别。游戏可以并行处理的部分基本上

都交给显卡了，CPU并行运算基本上可以忽略。

再说一下显卡和cpu,显卡=100个民工，CPU=1个（2个，4个）

科学家，科学家可以做民工的事，但是让4个科学家

做100个民工的事就会很慢，不过要是给民工分配工作

1个科学家和4个科学家区别不大

你真的想知道准确答案的话，自己实测一下不就知道了

我的答案是没有对多核做过专门优化的游戏，速度一点

都不会提高，现在的游戏基本都是这样

---