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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物,分离和处理难度比较大。
半导体废气治理办法
半导体酸废气处理通常采用碱液体喷淋法,又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而达到大气排放标准,故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。
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半导体的生产是有重污染的。首先,半导体工厂中会有大量的酸性气体(这些气体来自蚀刻和清洗晶圆等)。其次,由于光刻胶溶液、显影液等用量较大。用在半导体制造过程中,这些溶液主要是有机物质,所以在蚀刻,清洗、薄膜生长等过程中。将使用大量的有机溶剂,包括二甲苯、丙酮、苯、四氯化碳、四氯化碳、二氯化碳F2等。其中,苯是一种剧毒的一级致癌物。为了防止这些污染伤害员工和污染环境,半导体工厂需要采取极其严格的污染预防措施,包括工作场所空气的实时处理、生产废物的妥善处理等。可以说,如果污染治理的任何一个环节出现问题,都有可能对员工身体造成很大的伤害,也有可能对周围环境造成很大的污染。√ 楼主您好,根据您提出的问题,下面为您做详细解答:
半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。
半导体有机废气处理办法
采用RTO设备处理
RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水,净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率达到99%以上,热回收效率达到95%以上。
直接燃烧法处理
有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉(TO)→烟囱排气达标排放。
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