日本断供韩国半导体材料，国产替代迎历史性机遇

据日本媒体报道，日本政府将于7月1日宣布限制三种日产半导体材料的对韩出口，此举是日方对韩国“强征劳工”案的反制措施之一。三种材料分别是用于电视和智能手机面板上使用的氟聚酰亚胺、半导体制作过程中的核心材料光刻胶和高纯度半导体用氟化氢。

日本占全球氟聚酰亚胺和光刻胶总产量的90%，全球半导体企业70%的氟化氢需从日本进口。日本对韩国实施出口管制后，韩国半导体企业和面板企业三星和LG等公司将受到冲击。另一方面，国产光刻胶有望迎来机会。

相关公司方面，据选股宝主题库（xuangubao.cn）光刻机板块显示，

晶瑞股份：参股公司苏州瑞红是国内光刻胶龙头之一；公司是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一，在国内率先实现目前集成电路芯片制造领域大量使用的核心光刻胶的量产

南大光电：参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过包括中芯国际在内的部分客户的认证

强力新材：公司从事半导体KrF光刻胶用光酸、光酸中间体以及聚合物用单体的生产及销售，光酸中间体已商业化量产，光酸及单体已向主要KrF光刻胶企业认证，销售。

更多公司见光刻机板块显示，

*风险提示：股市有风险，入市需谨慎

月日本宣布对出口至韩国的三种半导体材料加以管控，此举不仅将对韩国半导体产业造成冲击，并且可能会对三星的5G布局造成不利影响......

日本限制向韩国出口用于半导体制造过程中“清洗”所需的高纯度氟化氢、涂覆在半导体基板上的感光剂“光刻胶”、用于制造电视和智能手机显示面板的氟化聚酰亚胺，这3种材料是显示面板及半导体芯片制造过程当中所需的关键材料。该限制令已于7月4日开始执行。日本对韩国实施出口管制后，韩国半导体企业和面板企业短期内很难找到替代厂家，三星和LG等公司将受到冲击。

接下来是预烘和底胶涂覆工艺，光刻胶中含有溶剂，硅片脱水烘焙能去除圆片表面的潮气、增强光刻胶与表面的黏附性，这是与底胶涂覆合并进行的，底胶涂覆增强光刻胶(PR)和圆片表面的黏附性。广泛使用 (HMDS)六甲基二硅胺、在 PR 旋转涂覆前 HMDS 蒸气涂覆、PR 涂覆前用冷却板冷却圆片。

2017 年半导体光刻胶需求量达 216 万加仑，较 2016 年增长 8%，销售金额超过12 亿美元。未来一段时间内半导体光刻胶领域仍将实现增长：2016-2018 年全球半导体集成电路销售额复合增长率达到 19%，5G 技术的发展仍将催动半导体芯片更新换代，刺激 I 线光刻胶市场发展；精细化需求趋势将促进分辨率更高的光刻胶的应用，进而推动 KrF 光刻胶市场的增长。另外根据摩尔定律，每隔两年电子设备的性能就会翻一番，极紫外光刻胶的出现突破了 10nm 分辨率的瓶颈，但目前极紫外光刻胶实现产业化还需一定时间，这段时间内 ArF 光刻胶仍将为最先进制程节点的主流，保持快速增长趋势。预计 2018-2022 年全球半导体光刻胶需求量增速为 6%-8%，至 2022 年需求量将达到 310 万加仑，市场规模将达到 18.5 亿美元。

可以说日本限制供应半导体给韩国，对韩国的影响还是很大的。首先日本氟聚酰亚胺和光刻胶总产量占全球90%，世界上使用半导体的企业，70％的氟化氢是从日本进口，其中韩国的的企业三星电子、LG和SK等，所需的氟聚酰亚胺和高纯度氟化氢大多数也是从日本进口的。如果韩国不能找到替代进口这些原料的国家，日本的这个举动将对韩国的半导体产业产生重大的打击。

韩国的半导体行业在全球一直发展的很好，其中OLED技术属于世界领先地位。产能能够占全世界的70%以上。但是日本供应链的限制，将会对这一产业，有着巨大的影响。除了OLED的影响之外，对韩国的储存芯片，CIS芯片，国内面板等产业也有着巨大的影响。

日本跟韩国，可以说也是因为历史，而导致关系逐渐恶劣的两个国家了。从韩国跟日本索要二战期间征用劳动力的补偿，被日本拒绝。到韩国海军火控雷达照射日本自卫队巡逻机事件，再到日本对韩国进口的水产品进行严格的检疫检查，直到现在的日本对韩国半导体的限制出口。两个国家的矛盾可以说是一直存在的。

不过不得不说，日本限制半导体出口韩国这一招，的确会对韩国有不小的影响。安倍晋三有可能也是想通过这个手段来“敲打一下韩国”，来提高自己的支持率，这些都是不无可能的。

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