euv光刻机三大核心技术 哪些公司有euv光刻机

　　中国芯的进步那是有目共睹，我国在光刻机，特别是在EUV光刻机方面，更是不断寻求填补空白的途径。

　　EUV光刻机有三大核心技术，分别是光源系统、光学镜头、双工作台系统。

　　国产EUV光刻机不断“突围”

　　2021年6月28日，我国重大科技基础设施项目，首台高能同步辐射光源科研设备成功在北京怀柔科学城完成安装。这就解决了EUV光源的问题。

　　2021年5月下旬，南京大学陆海和张荣教授团队在前期研究的基础上，通过开发选区刻蚀、高温氧化修复与低温金属化工艺，成功实现了国际首支宽禁带半导体pn结构EUV探测器。

　　光刻机是技术壁垒极高的产品，而EUV光刻机制造更是“难上加难”，在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机。

　　该公司于1997年加入了有英特尔和美国能源部牵头组建的EUVLLC前沿技术组织，享受EUVLLC的研究成果大大加快了ASML的EUV研发速度;2010年，公司向一家亚洲芯片制造商的研究机构运送了第一台极紫外（EUV）光刻工具原型（NXE：3100），标志着光刻新时代的开始;2020年，公司的EUV光刻机进入大批量生产，也为全球唯一一家能量产EUV光刻机的公司。

　　文章综合大嘴猴侃科技、笨鸟科技、前瞻产业研究院

　　编辑：黄飞