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EUV光刻技术出现新的挑战:3nm节点的金属间距约为22nm
据semiwiki报道,预计 3nm 节点的金属间距约为 22nm。这对 EUV 光刻技术的使用提出了一些新的挑战。这些挑战针对0.33NA 与 0.55NA 系统的一些挑战是不同的。 对于 0.
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光刻工艺的8个基本步骤 光刻机结构及工作原理
原作者:Shiyuan Liu 编辑:黄飞
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传台积电计划关闭EUV光刻机来减少产能
自今年二季度以来,由于消费类电子市场对于半导体需求持续下滑,再加上新增晶圆制造产能的陆续开出,众多晶圆代工厂的产能利用率都出现了下滑。继7月有大陆成熟制程晶圆代工厂率先降价10%之后,近日有消息称,台
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华为布局光量子芯片计划,不用光刻机也能量产
【导读】华为研发芯片新技术,在芯片堆叠以及光量子等新型芯片领域进行探索。业内对这些芯片有哪些成果呢?新型芯片能打破摩尔定律吗?【一】光量子,光电芯片的探索半导体发展了半个世纪,从人类发现晶体管,集成电
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中国科学家自主研制成功新型光刻机
记者23日从中科院光电技术研究所获悉,该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。据中科院光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍,该所自主研发的新型光刻机,将纳米压印这一新型高分辨力光刻
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芯片是怎么被“光刻”出来的
5万块一瓶的胶水你见过吗?还真有!它的名字叫光刻胶,是造芯片必备的材料,这项核心技术掌握在日本手里,光是日本的化工四巨头,就占了80%的市场份额。 那光刻胶凭啥卖5万一瓶啊?这得从芯片是怎么被“光刻”
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单台破亿 光刻机何以如此金贵?
不久前,一台价值1.06亿元的设备经空运从荷兰飞抵厦门,由于该设备价值高,而且对保存和运输有着很高的要求——必须保持在23℃恒温状态下。为了避免影响设备的精度,在运输中也对稳定性有极高的要求。因此,机
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芯片制造关键的EUV光刻机单价为何能超1亿欧元?
每每提到半导体行业发展,免不了要说下中国最近两年发展集成电路的决心之强、投资之大,国内公司对人才也求贤若渴,不惜高薪挖人,但在关键技术上,我们落后欧美公司还是挺多的,特别是在半导体制造装备上,先进的光
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可怕的台积电,一口气买下5台EUV光刻机
巴隆周刊(Barrons)报导,艾司摩尔(ASML)上周公布上季财报亮眼,并宣布已接到新一代极紫外光(EUV)微影机台六部订单,有分析师推测,台积电可能订走了其中五台,即一口气买下5.5亿美元的设备。
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EUV到来之前的顶梁柱,你真的了解浸入式光刻吗?
如果历史可以重演的话,日本人Takanashi一定会重新选择申请专利的时间。1984年,正是他在一项美国专利中定义了浸入式光刻机最基本的结构特征,即在最后一级物镜与光刻胶之间充入一层透明的液体。只可惜
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ASML与卡尔蔡司合作研发EUV光刻系统 2024年问世
半导体制造工艺是集成电路产业的核心,未来摩尔定律是否还能主宰产业发展就得看半导体工艺是否能在10nm以下的工艺继续突破了,而在这个问题上,荷兰ASML公司的EUV光刻机何时成熟就是个关键了。上周ASM
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国产光刻机水平进展和前景分析
什么是光刻机光刻机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、
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光刻机结构组成及工作原理
光刻机介绍光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.光刻机分类:光刻机一般根据 *** 作
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荷兰光刻机为什么厉害_为何光刻机不卖给中国
什么是光刻机?光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的
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中国和荷兰在半导体产业领域加强合作
荷兰除了NXP、ASML、Philips等知名公司外,大量的中小企业在设计、测试和模拟及MEMS、光电子和特定应用领域也非常活跃,而中国巨大的半导体需求市场也吸引着全球淘金者目光。为此,首届“中荷半导
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一文解析刻蚀机和光刻机的原理及区别
什么是光刻机光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Pho
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中芯国际1.2亿美元向ASML预订一套光刻设备,欲开发14纳米工艺
【导读】:荷兰ASML光刻机掌握着世界做高端的工艺,半导体行业都离不开他,ASML光刻机的售价也是相当之高的。据传,中芯国际1.2亿美元向ASML预订一套光刻设备,欲开发14纳米工艺,缩小与竞争对手的
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上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目实现首台工艺设备——光刻机搬入
5月21日,在上海浦东新区康桥工业园南区,由华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目(以下简称“华虹六厂”)实现首台工艺设备——光刻机搬入, 标志着华虹六厂从基建
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长江存储迎来第一台光刻机力争2019年实现规模量产
近日消息,长江存储从荷兰阿斯麦(ASML)公司订购的一台光刻机(非EUV光刻机)已抵达武汉。这台光刻机价值高达7200万美元,约合人民币4.6亿元。此外,中芯国际中芯国际也向阿斯麦下单了一台价值高达1