在研讨会上,Tensilica公司表示将密切关注中芯国际目前正在积极研发65纳米工艺制程。此外,Tensilica还与中芯国际的其他技术伙伴一道就90纳米逻辑(90nm Logic)、0.13微米低压电路(0.13um Low-voltage)、低漏电(Low-leakage)、0.18微米嵌入式可擦除存储器(0.18um Embedded EEPROM)、0.18微米NOR型闪存技术(0.18um NOR Flash)、0.18微米高压技术(0.18um high-voltage)等高端工艺技术和中芯国际进行了深入的研讨。
超过三十家中芯国际的厂商在技术研讨会上设立展台,展示了包括智能模块、单元库、EDA电子设计自动化工具等产品及封装测试、设计等服务。
会上,中芯国际的客户和合作伙伴对Tensilica的可配置处理器技术表现出了强烈的兴趣。
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