爱德万测试开发出光罩缺陷检验扫描式电子显微镜系统E5610

爱德万测试开发出光罩缺陷检验扫描式电子显微镜系统E5610,第1张

  爱德万测试Advantest) 宣布已开发出全新光罩缺陷检验扫描式电子显微镜系统E5610,不仅可检测光罩基材中超细微缺陷,还能加以分类。

  E5610承袭Advantest一贯的高稳定性、全自动影像撷取技术,以其备受肯定的多视角量测扫描式电子显微镜检测光罩缺陷,并提供全新开发的光束倾斜功能,以倾斜角度进行扫描。E5610的缺陷检验功能精确性高且产能效率高,将能提升下一代光罩产品品质,缩短制造周期。

  光罩制程不容许出现任何重大缺陷,因为这不仅会降低良率,也将连带影响制程周期时间。Advantest全新E5610是光罩制程厂不可或缺的解决方案,其快速精准的技术可将缺陷逐一分类,并依缺陷类别判断适当修复方式,在既定制程周期时间内达成良率目标。

  Advantest享有专利的逐行架构技术,即使在以低加速电压进行光罩扫描之下,也能让空间解析度达到2nm水准。此外,E5610还提供独有电子控制倾斜模组,可使光束上扬15度,让执行3D缺陷检验变得更容易。

  E5610由于具备高精确性定位平台、电荷控制功能、降低污染技术,因此即使在扫描式电子显微镜高度放大的情况下,仍能展现高产能效率,稳定进行全自动缺陷造影。

  E5610与各主流光罩检验系统均相容。它可汇入缺陷位置资料,并自动对位置造影;同时支援业界标准KLARF (KLA结果档案) 格式。

  E5610提供了EDS (X光能谱散布分析仪) 选购模组,此模组可用于分析基本成本,这是一种对应光罩基材缺陷的先进技术。

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