中国科学家自主研制成功新型光刻机

　　记者２３日从中科院光电技术研究所获悉，该所微电子专用设备研发团队自主研制成功紫外纳米压印光刻机。

　　据中科院光电所微电子装备总体研究室主任胡松介绍，该所自主研发的新型光刻机，将纳米压印这一新型高分辨力光刻技术，与具有低成本、高效率特点的紫外光刻技术有机结合。

　　记者了解到，这套设备采用新型纳米对准技术，将原光刻设备的对准精度由亚微米量级提升至纳米量级。对准是光刻设备三大核心指标之一，是实现功能化器件加工的关键。该所在国家自然基金的连续资助下，完成基于莫尔条纹的高精度对准技术自主研发，取得专利２０余项。

　　“该技术在光刻机中的成功应用突破了现有纳米尺度结构加工的瓶颈问题，为高精度纳米器件的加工提供了技术保障。”胡松说。

　　据悉，该设备可广泛应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、ＮＭＥＭＳ器件等微纳结构器件的制备，具有广阔的应用前景，目前已完成初试和小批生产，并已在高校与企业用户中推广。

　　光刻机是什么

　　光刻机/紫外曝光机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.

　　一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

　　Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；

　　在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

　　光刻机的分类

　　光刻机一般根据 *** 作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

　　A 手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

　　B 半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

　　C 自动： 指的是 从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要，恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer。