三星电子DDR5 DRAM内存颗粒实现HKMG工艺大规模应用

三星电子DDR5 DRAM内存颗粒实现HKMG工艺大规模应用,第1张

据相关分析机构日前披露,三星电子向一家中国台湾内存条厂商芝奇(G.Skill)提供了基于高K金属栅极(HKMG)技术的DDR5 DRAM内存颗粒

三星电子DDR5 DRAM内存颗粒实现HKMG工艺大规模应用,936eeff4-37e8-11ed-ba43-dac502259ad0.jpg,第2张

三星电子HKMG DDR5 DRAM内部电路照片

该机构表示,目前已经在芝奇(G.Skill)Trident Z5系列DDR5内存中发现了三星HKMG DDR5内存颗粒。该机构还预计HKMG将成为下一代DRAM行业的新标准。

据悉,三星电子于去年3月首次宣布DDR5 DRAM开发成功,并在业界首次实现HKMG工艺大规模应用。据介绍,DDR5数据处理速度是DDR4的两倍,起步就能到4800MHz,而且容量也会得到提升,但延迟相对会上升。

HKMG技术传统上应用于逻辑半导体器件,与传统材料技术相比,HKMG可明显改善漏电情况,三星曾表示该技术可减少内存功耗约13%,对注重能源效率的数据中心等应用有重要意义。不过三星并未披露内存的实际商业化情况,只是表示,三星计划在下一代中根据客户需求及时将内存商业化。

编辑:黄飞

 

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原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/2997603.html

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