氧化亚铜晶体生长影响因素 capacitor • 2023-3-6 • 技术 • 阅读 22 氧化亚铜晶体生长影响因素有光照、电流密度、电位时间、电解液的组成。根据查询相关资料信息显示:氧化亚铜是一种对环境友善的P型半导体材料,具有许多优异的性质,影响氧化亚铜晶体生长的因素有光照、电流密度、电位时间和电解液的组成等因素。设若用此方法生产72kg的氧化亚铜,则参与电解的水的质量是x2Cu+H2O 通电 . Cu2O+H2↑ 18 144 x 72kg 18 144 = x 72kg x=9kg答:若用此方法生产72kg的氧化亚铜,则参与电解的水的质量是9kg; 欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/5894865.html 氧化亚铜 晶体 电解液 生长 电位 赞 (0) 打赏 微信扫一扫 支付宝扫一扫 capacitor 一级用户组 0 0 生成海报 关于半导体电极 上一篇 2023-03-06 集成电路行业给高薪,福利好,为什么还那么缺人呢? 下一篇 2023-03-06 发表评论 请登录后评论... 登录后才能评论 提交 评论列表(0条)
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