卧式扩散炉工作原理

卧式扩散炉工作原理是一系列的化学反应。

因为二氧化硅被广泛用于半导体元器件的保护层和钝化层，在含氧气的环境下，氧分子将通过一层边界层到达二氧化硅的表面，并与硅原子反应生成二氧化硅，与此同时，氧化剂扩散的方式通过二氧化硅与硅原子反应生成新的二氧化硅层，从而使得二氧化硅的膜不断生成增厚。

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。

有。根据查询半导体扩散设备相关资料得知，半导体扩散设备有危害。半导体扩散设备潜在的风险是，一旦设备出现故障或工艺出现异常，受到影响的晶圆数量也是成倍增加，因而对半导体扩散设备的管理需格外严格。

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