欧姆接触是指金属与半导体形成欧姆接触是指在接触处是一个纯电阻,而且该电阻越小越好,使得组件 *** 作时,大部分的电压降在活动区而不在接触面。因此,其I-V特性是线性关系,斜率越大接触电阻越小,接触电阻的大小直接影响器件的性能指标。
肖特基接触是指金属和半导体材料相接触的时候,在界面处半导体的能带弯曲,形成肖特基势垒。势垒的存在才导致了大的界面电阻。与之对应的是欧姆接触,界面处势垒非常小或者是没有接触势垒。
扩展资料:
肖特基接触到欧姆接触的转变:二维 (2D) InSe具有高达10^3 cm^2·V^-1·s^-1的电子迁移率,可以与黑磷相媲美,且能够在空气中稳定存在。在实际应用中,2D InSe需要与金属电极直接接触以实现载流子的注入。
然而,接触界面会形成有限的肖特基势垒,其降低了载流子的注入效率,增大了接触电阻,从而极大的削弱了器件性能。因此,通过调节接触界面的势垒高度来形成低电阻欧姆接触,对高性能半导体器件的设计,组装和制造至关重要。
参考资料来源:百度百科-欧姆接触
参考资料来源:百度百科-肖特基接触
金属功函数:金属内部逸出到表面真空所需最小能量 半导体功函数:E0与费米能级的差 电子亲和能 使导带底的电子逸出体外所需最小能量 WSe2为P型半导体 半导体费米能级高于金属的费米能级 接触后,金属和半导体的费米能级相同,半导体的导带电子流向金属 电荷的流动在半导体表面形成正的空间电荷区(因为电子溜走了嘛) 那么半导体表面 和内部就会存在电势差,就是表面势Vs 接触电势差分布在空间电荷区和金属半导体表面间,当紧密接触时主要分布在空间电荷区 势垒高度为-qVs整流接触:是特定金属与轻掺杂半导体(大多为N型硅)接触,又叫肖特基接触;具有与PN相似的性能,但属于单极性器件。 欧姆接触:是特定金属与重掺杂半导体或功函数低的半导体接触,它具有双向导通性,接触电阻可忽略。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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