半导体光刻,刻蚀,外延工艺工程师哪个好

半导体光刻,刻蚀,外延工艺工程师哪个好：首先您好，首先你说的这两个职位在长远看来都是很有发展前途的。

仔细分析的话：

LED外延片（芯片）工艺工程师专业性比较强，比较复杂，但是发展前途非常好，LED作为一个朝阳产业，如今的火爆市场你也看见，估计对你以后的职场发展很有前途。

半导体工艺工程师的话，就相对来讲要求降低，但同样很有前途，因为目前行业来看，做封装的肯定比芯片的多，这样你以后选择的话肯定会多的多！

LED的行业你是选择对了，毕竟是个很有前途的行业，但是说句老实话，作为一名应届毕业生，刚进公司肯定都会从基层做起的，想很短时间内出师基本不太可能，做好努力学习的心理准备。

台湾那边的资深LED外延片工艺工程师，被大陆的新开的LED芯片厂请来做工艺导入，年薪都是百万以上，望你好好把握！

目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外光刻技术。EUV为先进工艺芯片光刻的发展方向。那么duv光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？

duv光刻机和euv光刻机区别

1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到10nm以下晶圆的生产。

2. duv主要使用的是光的折射原理，而euv使用的光的反射原理，内部必须是真空 *** 作。

以上就是duv光刻机和euv光刻机区别了，现在基本都是euv光刻机。

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