半导体臭氧发生器需要用到二氧化碳吗

需要。半导体臭氧发生器需要用到二氧化碳，臭氧发生器是用于制取臭氧气体的装置，传统的臭氧发生器安全性能不够，且容易损坏，导致其使用寿命短，损坏的主要原因是对臭氧管的冷却力度不够，且损坏后不便于进行更换。

氮气是保护气体，防止工艺过程中发生氧化，主要是在合金烧结时或者高温导热胶固化时应用，氢气有还原性，可以使氧化层还原，但是氢气有一定危险性，我知道用得较多的是氮氢混合气体，这样安全些，二氧化碳，这个不了解压缩空气，主要是用在工艺过程中，比如工作台的吸附，一些设备必须有压空才能工作。了解得不多，希望有帮助

做Si集成电路的fab里，你列举的这些都用的到。

硅烷和笑气，长氧化硅时候用。

HCL:清洗wafer的时候用。

CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。

SF6:蚀刻Si的时候用。

其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。

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