半导体臭氧发生器需要用到二氧化碳吗

半导体臭氧发生器需要用到二氧化碳吗,第1张

需要。半导体臭氧发生器需要用到二氧化碳,臭氧发生器是用于制取臭氧气体的装置,传统的臭氧发生器安全性能不够,且容易损坏,导致其使用寿命短,损坏的主要原因是对臭氧管的冷却力度不够,且损坏后不便于进行更换。

氮气是保护气体,防止工艺过程中发生氧化,主要是在合金烧结时或者高温导热胶固化时应用,氢气有还原性,可以使氧化层还原,但是氢气有一定危险性,我知道用得较多的是氮氢混合气体,这样安全些,二氧化碳,这个不了解压缩空气,主要是用在工艺过程中,比如工作台的吸附,一些设备必须有压空才能工作。了解得不多,希望有帮助

做Si集成电路的fab里,你列举的这些都用的到。

硅烷和笑气,长氧化硅时候用。

HCL:清洗wafer的时候用。

CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。

SF6:蚀刻Si的时候用。

其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。


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