制造芯片到底有多复杂？为什么光刻机技术难住了大国工匠？

制造芯片的过程就是不断把一个又一个的小的芯片单位到一块这个小的芯片单位，越是小芯片的结构越是紧凑，他的这个精度就越高，芯片的性能就越好，一个光刻机的制造那是聚集了全世界5000多家顶尖的科技公司而研究出来的。

光刻机这三个字以前并没有真正进入人们的视野里，但是随着台积电宣布断供华为人们就逐渐的了解到了，这个东西卡住了我们的咽喉，因为我们的手机最核心的东西就是芯片，没有自己的芯片手机就没有性能，就像人的大脑一样，人要是没有了脑子，其他部位再怎么完整又有什么用呢，我们只具备自我研发能力却不具备制造能力卡住的，关键就是我们没有自己足够高精度的光刻机，据说国产的光刻机现在已经到了14纳米左右的进度，但是距离人家5纳米的还差太远了。

我们国家有很多优秀的人才，大国工匠的名字不是凭空来的，显然有我们独特的地方，但是单纯有我们独特的地方也没有用，因为光客机不是一个国家单纯凭自己的力量就可以造出来的，像美国，荷兰这些国家，他们是掌握着最主要的专利技术，但并不是所有的技术都是他们自己的，也有很多其他国家的一个足够优秀的性能好的光刻机，不说卖多少钱的问题，就是这个制造难度的问题，这不是轻易能拿到的，比如说荷兰美国闹得那么严重的疫情，都没有想过用光刻机来换口罩，换医疗物资。

短期之内我们是造不出来的，因为我们自己在光刻机这方面所用的专利技术太丑了，主要的技术在人家手里，你要想用必须得经过人家的允许人家对你进行技术封锁，给多少钱都不卖，你我们之前也想买过外国的光刻机，想着哪怕贵一点，毕竟我们处在技术的劣势地位，我们买回来研究研究兴许自己就有技术突破了，但是人家不卖你给多少钱都不卖，你因为外国就是有这种技术封锁，这不是一年两年的事情了。

首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。

其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国著名厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。

其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。

美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。所以说对于我国很多中小企业来说，他们没有充足的资金去研发光刻机。并且加上目前市场已经存在一定的饱和，这些新研发的企业如果大量将产品投产到市场当中，无疑会使得竞争对手和自己两败俱伤。

最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。

从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。并且从目前来看，上海微电子装备已经能够研发出90纳米工艺的芯片。而另外一家公司能够研发出半导体直写的光刻机。并且已经能够实现最高200纳米的量产技术。